CFRP反射镜纳米晶Ni镀层制备工艺研究
| 摘要 | 第2-3页 |
| Abstract | 第3-4页 |
| 1 绪论 | 第8-19页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第8-9页 |
| 1.2 CFRP反射镜研究现状 | 第9-14页 |
| 1.2.1 CFRP复合材料反射镜研究进展状况 | 第10-11页 |
| 1.2.2 CFRP复合材料反射镜制备工艺 | 第11-12页 |
| 1.2.3 CFRP复合材料反射镜功能面的制备 | 第12-14页 |
| 1.3 纳米晶镍镀层的发展 | 第14-17页 |
| 1.3.1 纳米材料的优势 | 第14-15页 |
| 1.3.2 电沉积纳米晶材料的性能及应用前景 | 第15-17页 |
| 1.4 纳米晶镀层评价方法 | 第17-18页 |
| 1.4.1 镀层形貌 | 第17页 |
| 1.4.2 镀层物相 | 第17-18页 |
| 1.5 本文的主要工作 | 第18-19页 |
| 2 CFRP纳米晶复合镀层工艺研究 | 第19-33页 |
| 2.1 前言 | 第19页 |
| 2.2 复合材料成型方法 | 第19-20页 |
| 2.3 复合材料化学镀 | 第20-24页 |
| 2.3.1 化学镀工艺 | 第21-22页 |
| 2.3.2 可简化的化学镀工艺 | 第22-23页 |
| 2.3.3 化学镀镍溶液 | 第23-24页 |
| 2.4 脉冲电镀 | 第24-30页 |
| 2.4.1 电镀的电化学原理 | 第24-25页 |
| 2.4.2 脉冲电镀技术 | 第25-26页 |
| 2.4.3 脉冲电镀技术的优点 | 第26-27页 |
| 2.4.4 脉冲镀镍所需要的资源 | 第27-30页 |
| 2.5 镀层分析方法 | 第30-32页 |
| 2.5.1 晶粒大小的测量方法 | 第30-31页 |
| 2.5.2 晶粒择优取向的计算 | 第31-32页 |
| 2.5.3 表面形貌观测 | 第32页 |
| 2.6 小结 | 第32-33页 |
| 3 纳米晶镀层制备工艺与基本性能评价 | 第33-48页 |
| 3.1 工艺流程 | 第33-36页 |
| 3.1.1 待镀基板的制备 | 第33-34页 |
| 3.1.2 化学镀流程 | 第34-35页 |
| 3.1.3 脉冲电镀流程 | 第35-36页 |
| 3.2 镀层的生长机制 | 第36-40页 |
| 3.2.1 试件的XRD分析 | 第36-40页 |
| 3.2.2 试件的生长速度 | 第40页 |
| 3.3 镀层属性与表面形貌分析 | 第40-46页 |
| 3.3.1 化学镀与电镀后表面形貌变化 | 第40-42页 |
| 3.3.2 电镀后表面形貌随镀层增厚的变化 | 第42-44页 |
| 3.3.3 粗糙度变化与机理分析 | 第44-46页 |
| 3.4 小结 | 第46-48页 |
| 4 关键参数对镀层的影响 | 第48-65页 |
| 4.1 前言 | 第48页 |
| 4.2 脉冲电流密度对镀层生长机制的影响 | 第48-50页 |
| 4.2.1 实验设置 | 第48-49页 |
| 4.2.2 不同脉冲电流密度下镀层的生长速度 | 第49页 |
| 4.2.3 不同脉冲电流下镀层的微观形貌 | 第49-50页 |
| 4.3 不同的占空比对镀层生长机制的影响 | 第50-53页 |
| 4.3.1 实验设置 | 第51页 |
| 4.3.2 不同占空比下镀层的生长速度 | 第51-52页 |
| 4.3.3 不同占空比下镀层的微观形貌 | 第52-53页 |
| 4.4 脉冲频率对镀层生长机制的影响 | 第53-56页 |
| 4.4.1 实验设置 | 第54页 |
| 4.4.2 不同脉冲频率下镀层的生长速度 | 第54-55页 |
| 4.4.3 不同脉冲频率下镀层的微观形貌 | 第55-56页 |
| 4.5 镀层表面粗糙度变化 | 第56-60页 |
| 4.5.1 脉冲电流对表面粗糙度的影响 | 第56-57页 |
| 4.5.2 占空比对表面粗糙度的影响 | 第57-58页 |
| 4.5.3 脉冲频率对表面粗糙度的影响 | 第58-60页 |
| 4.6 物相分析 | 第60-63页 |
| 4.6.1 电流密度对物相的影响 | 第60-61页 |
| 4.6.2 占空比对物相的影响 | 第61-62页 |
| 4.6.3 脉冲频率对物相的影响 | 第62-63页 |
| 4.7 小结 | 第63-65页 |
| 5 结论与展望 | 第65-67页 |
| 5.1 结论 | 第65-66页 |
| 5.2 展望 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-70页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71-73页 |
