| 摘要 | 第6-8页 |
| Abstract | 第8-9页 |
| 第一章 绪论 | 第10-32页 |
| 1.1 光在能源方面的应用 | 第10页 |
| 1.2 光引发有机合成反应 | 第10-16页 |
| 1.3 光引发含氮杂环化合物的合成 | 第16-25页 |
| 1.3.1 光引发吡咯类杂环化合物的合成 | 第16-19页 |
| 1.3.2 光引发吡啶类杂环化合物的合成 | 第19-20页 |
| 1.3.3 光引发吡唑类杂环化合物的合成 | 第20-23页 |
| 1.3.4 光引发嘧啶类杂环化合物的合成 | 第23-25页 |
| 1.4 本论文的选题背景和研究意义 | 第25-27页 |
| 参考文献 | 第27-32页 |
| 第二章 可见光诱导氮杂环化合物的合成 | 第32-66页 |
| 2.1 引言 | 第32-36页 |
| 2.2 结果与讨论 | 第36-42页 |
| 2.2.1 反应条件优化 | 第36-37页 |
| 2.2.2 底物适用范围 | 第37-38页 |
| 2.2.3 克级规模反应 | 第38-39页 |
| 2.2.4 反应机理的研究 | 第39页 |
| 2.2.5 三取代的 1,2,4-三氮唑类化合物的合成 | 第39-41页 |
| 2.2.6 一锅法合成三取代的 1,2,4,-三氮唑 | 第41页 |
| 2.2.7 手性的尝试 | 第41-42页 |
| 2.3 总结 | 第42页 |
| 2.4 实验部分 | 第42-63页 |
| 2.4.1 仪器、试剂及方法 | 第42-43页 |
| 2.4.2 手性光氧化还原催化剂的制备及表征 | 第43页 |
| 2.4.3 底物1的制备 | 第43-44页 |
| 2.4.4 产物3的制备及结构表征 | 第44-49页 |
| 2.4.5 衍生化产物5的制备及结构表征 | 第49-55页 |
| 2.4.6 衍生化产物5a的晶体结构数据 | 第55-63页 |
| 参考文献 | 第63-66页 |
| 第三章 可见光诱导的芳构化反应 | 第66-89页 |
| 3.1 引言 | 第66-69页 |
| 3.2 结果与讨论 | 第69-74页 |
| 3.2.1 反应条件优化 | 第69-70页 |
| 3.2.2 底物适用范围 | 第70-71页 |
| 3.2.3 自由基猝灭剂对反应的影响 | 第71-72页 |
| 3.2.4 反应机理的研究 | 第72-73页 |
| 3.2.5 常用氧化剂与光催化反应的对比 | 第73-74页 |
| 3.2.6 衍生化反应 | 第74页 |
| 3.3 总结 | 第74-75页 |
| 3.4 实验部分 | 第75-86页 |
| 3.4.1 仪器、试剂及方法 | 第75页 |
| 3.4.2 底物3的制备 | 第75页 |
| 3.4.3 芳构化产物6的制备及结构表征 | 第75-81页 |
| 3.4.4 衍生化产物7和 8 的制备及结构表征 | 第81-82页 |
| 3.4.5 芳构化产物 6k的晶体结构数据 | 第82-86页 |
| 参考文献 | 第86-89页 |
| 作者发表的学术论文及参与的课题 | 第89-90页 |
| 致谢 | 第90-91页 |
| 典型化合物的NMR谱图 | 第91-113页 |