摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第1章 绪论 | 第9-17页 |
1.1 电解法制备铬粉 | 第9-14页 |
1.1.1 铬的性质 | 第9-10页 |
1.1.2 铬的用途 | 第10页 |
1.1.3 铬的湿法冶炼工艺及发展现状 | 第10-12页 |
1.1.4 电解还原铬的电极过程 | 第12-13页 |
1.1.5 三价铬电解中的配合物 | 第13-14页 |
1.2 膜技术在湿法冶金中的应用 | 第14-15页 |
1.3 本课题研究目的及意义 | 第15页 |
1.4 本课题研究内容 | 第15-17页 |
第2章 试验材料、设备及研究方法 | 第17-22页 |
2.1 试验材料及试剂 | 第17页 |
2.2 试验仪器 | 第17-18页 |
2.3 试验设备 | 第18-19页 |
2.4 试验方法 | 第19页 |
2.4.1 阴极还原铬粉试验 | 第19页 |
2.4.2 水溶液中Cr(Ⅲ)配合物形成机理试验 | 第19页 |
2.4.3 三价铬阴极还原机理试验 | 第19页 |
2.5 分析及测试方法 | 第19-22页 |
2.5.1 电流效率及能耗计算 | 第19-20页 |
2.5.2 电极电位的测定 | 第20页 |
2.5.3 Cr(Ⅲ)水溶液pH测定 | 第20页 |
2.5.4 Cr(Ⅲ)配合物光谱扫描 | 第20页 |
2.5.5 铬沉积层微观形貌观察 | 第20-21页 |
2.5.6 电化学极化测试 | 第21-22页 |
第3章 离子膜电解还原铬粉的工艺研究 | 第22-38页 |
3.1 三价铬体系组分研究 | 第22-25页 |
3.1.1 单组分配位剂的研究 | 第22-23页 |
3.1.2 双组分配位剂的研究 | 第23-25页 |
3.2 三价铬体系预电解方法研究 | 第25-29页 |
3.2.1 预处理方法的影响 | 第25-27页 |
3.2.2 预电解时间的影响 | 第27-28页 |
3.2.3 预电解机理的研究 | 第28-29页 |
3.3 电解还原铬粉工艺研究 | 第29-37页 |
3.3.1 pH的影响 | 第29-32页 |
3.3.2 电流密度的影响 | 第32-33页 |
3.3.3 温度的影响 | 第33-34页 |
3.3.4 搅拌转速的影响 | 第34-36页 |
3.3.5 电解时间的影响 | 第36-37页 |
3.4 本章小结 | 第37-38页 |
第4章 Cr(Ⅲ)体系中的配位反应及电解还原机理研究 | 第38-54页 |
4.1 Cr(Ⅲ)体系中的配位反应 | 第38-47页 |
4.1.1 水溶液中Cr(Ⅲ)离子的水解 | 第38-41页 |
4.1.2 配位剂对Cr(Ⅲ)配位反应的影响 | 第41-45页 |
4.1.3 硼酸对Cr(Ⅲ)配位反应的影响 | 第45-47页 |
4.2 三价铬体系电解还原机理研究 | 第47-53页 |
4.2.1 电化学活性配合物研究 | 第47-50页 |
4.2.2 Cr(Ⅲ)还原反应活化能的计算 | 第50-51页 |
4.2.3 Cr(Ⅲ)的电化学还原动力学参数 | 第51-53页 |
4.3 本章小结 | 第53-54页 |
第5章 三价铬体系电解还原铬粉经济分析 | 第54-62页 |
5.1 铬铁矿及铬铁合金市场分析 | 第54-59页 |
5.1.1 铬铁矿市场分析 | 第54-57页 |
5.1.2 铬铁合金市场分析 | 第57-59页 |
5.2 电解法冶炼金属铬成本分析 | 第59-61页 |
5.3 三价铬体系制备金属铬经济分析 | 第61页 |
5.4 本章小结 | 第61-62页 |
结论 | 第62-64页 |
参考文献 | 第64-71页 |
攻读硕士学位期间发表的论文及其它成果 | 第71-73页 |
致谢 | 第73页 |