磁控溅射制备MnGa薄膜及其磁特性研究

摘要	第4-5页
Abstract	第5页
1 绪论	第8-16页
1.1 引言	第8-9页
1.2 磁记录技术的发展历程	第9-11页
1.3 MnGa薄膜的结构与磁性特点	第11-13页
1.4 MnGa垂直磁化膜的研究进展	第13-15页
1.5 本文的研究内容与结构安排	第15-16页
2 MnGa薄膜的制备与分析测试	第16-27页
2.1 MnGa薄膜的制备	第16-20页
2.2 MnGa薄膜的微结构分析	第20-24页
2.3 MnGa薄膜的磁性能测试	第24-25页
2.4 本章小结	第25-27页
3 退火温度对MnGa薄膜磁性能与微结构的影响	第27-35页
3.1 引言	第27页
3.2 后退火温度对MnGa薄膜微结构的影响	第27-30页
3.3 后退火温度对MnGa薄膜磁性能的影响	第30-34页
3.4 本章小结	第34-35页
4 溅射工艺参数对MnGa薄膜磁性能的影响研究	第35-48页
4.1 溅射功率对MnGa薄膜成分与磁性能的影响	第35-37页
4.2 溅射气压对MnGa薄膜成分与磁性能的影响	第37-42页
4.3 薄膜厚度对Mn Ga薄膜磁性能的影响	第42-46页
4.4 本章小结	第46-48页
5 全文总结	第48-49页
致谢	第49-50页
参考文献	第50-54页
附录 攻读学位期间发表论文情况	第54页