| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-17页 |
| 1.1 前言 | 第9-11页 |
| 1.2 叠层片式压敏电阻器 | 第11-14页 |
| 1.3 选题来源和研究内容 | 第14-17页 |
| 2 实验过程及测试方法 | 第17-25页 |
| 2.1 实验设备及原料 | 第17-18页 |
| 2.2 材料制备 | 第18-21页 |
| 2.3 性能的测试与计算方法 | 第21-25页 |
| 3 还原再氧化工艺烧结ZnO片式压敏电阻 | 第25-41页 |
| 3.1 前言 | 第25-26页 |
| 3.2 还原气氛中烧结后的烧结特征 | 第26-29页 |
| 3.3 微观结构和电性能分析 | 第29-37页 |
| 3.4 还原再氧化机理解释 | 第37-39页 |
| 3.5 本章小结 | 第39-41页 |
| 4 还原气氛烧结温度与再氧化温度的影响 | 第41-57页 |
| 4.1 前言 | 第41页 |
| 4.2 还原气氛烧结温度的影响 | 第41-45页 |
| 4.3 再氧化温度的影响 | 第45-56页 |
| 4.4 本章小结 | 第56-57页 |
| 5 结论与展望 | 第57-59页 |
| 5.1 结论 | 第57-58页 |
| 5.2 展望 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-65页 |
| 附录1 攻读硕士期间发表的论文 | 第65页 |