基于X荧光涂（镀）层厚度测量研究
| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第12-16页 |
| 1.1 意义 | 第12-13页 |
| 1.2 国内外研究现状、趋势 | 第13-14页 |
| 1.3 本论文的工作任务 | 第14-16页 |
| 第2章 X荧光测厚机理 | 第16-20页 |
| 2.1 X荧光产生机理 | 第16-18页 |
| 2.2 X荧光测厚法原理 | 第18-20页 |
| 第3章 基于MCNP的X荧光测厚理论模拟 | 第20-26页 |
| 3.1 MCNP模型系统介绍 | 第20-21页 |
| 3.2 模拟结果及分析 | 第21-25页 |
| 3.2.1 探测器位置 | 第21-22页 |
| 3.2.2 激发源的优化设计 | 第22-24页 |
| 3.2.3 X荧光强度随涂层厚度变化的关系 | 第24-25页 |
| 3.3 本章小结 | 第25-26页 |
| 第4章 X荧光测厚的实验研究 | 第26-34页 |
| 4.1 实验装置 | 第26-31页 |
| 4.1.1 标准样品制作 | 第26-27页 |
| 4.1.2 荧光X射线发生器及探测装置 | 第27-28页 |
| 4.1.3 探测器 | 第28页 |
| 4.1.4 主放大器 | 第28-29页 |
| 4.1.5 单道脉冲幅度分析仪 | 第29-30页 |
| 4.1.6 定标器 | 第30-31页 |
| 4.2 实验测量数据及分析 | 第31-32页 |
| 4.3 本章小结 | 第32-34页 |
| 第5章 X荧光涂（镀）层厚度测量系统 | 第34-52页 |
| 5.1 硬件组成 | 第34-36页 |
| 5.2 系统软件设计 | 第36-41页 |
| 5.2.1 XML介绍及应用 | 第36-38页 |
| 5.2.2 串口控件介绍及应用 | 第38-41页 |
| 5.3 软件总体设计 | 第41-49页 |
| 5.3.1 串口操作 | 第42-44页 |
| 5.3.2 主界面（计数值和物质厚度显示界面） | 第44-46页 |
| 5.3.3 参数设置 | 第46-47页 |
| 5.3.4 靶核设置 | 第47-48页 |
| 5.3.5 放射源设置 | 第48-49页 |
| 5.4 本章小结 | 第49-52页 |
| 第6章 结论与展望 | 第52-54页 |
| 参考文献 | 第54-58页 |
| 附录 | 第58-62页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63页 |
