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镁合金表面微弧氧化膜层的制备及其耐腐蚀性能研究

摘要第1-7页
Abstract第7-12页
第一章 绪论第12-19页
   ·课题背景第12-13页
   ·医用镁合金的表面改性第13-14页
   ·微弧氧化技术第14-17页
     ·微弧氧化技术的发展历史及研究现状第14-15页
     ·微弧氧化的基本原理第15-16页
     ·微弧氧化的主要影响因素第16-17页
   ·本课题研究的意义和内容第17-19页
     ·本文研究的意义第17-18页
     ·本文研究的内容第18-19页
第二章 实验设备与研究方法第19-26页
   ·实验设备第19-20页
   ·实验材料第20-22页
   ·微弧氧化工艺流程第22-23页
     ·实验预处理第22页
     ·微弧氧化实验路线第22-23页
     ·微弧氧化工艺参数第23页
   ·氧化膜层的表征方法第23-24页
     ·扫描电镜(SEM)观察第23页
     ·X-射线衍射仪(XRD)检测第23页
     ·X-射线光电子能谱(XPS)分析第23-24页
     ·静态接触角的测量第24页
     ·傅立叶红外光谱仪(FT-IR)分析第24页
   ·微弧氧化膜层耐蚀性能测试第24-26页
     ·失重法试验第24-25页
     ·电化学方法试验第25页
     ·交流阻抗试验第25-26页
第三章 微弧氧化膜层的制备和工艺参数的优化第26-42页
   ·前言第26页
   ·电解液浓度的优化第26-31页
     ·不同电解液浓度对膜层形貌的影响第27-30页
     ·不同电解液浓度对膜层相组成的影响第30-31页
   ·工作电压的优化第31-35页
     ·不同电压对膜层形貌的影响第31-34页
     ·不同电压对膜层相组成的影响第34-35页
   ·氧化时间的优化第35-38页
     ·不同氧化时间对膜层形貌的影响第35-37页
     ·不同氧化时间对膜层相组成的影响第37-38页
   ·电源频率的优化第38-40页
     ·不同频率对膜层形貌的影响第38-40页
     ·不同频率对膜层相组成的影响第40页
   ·本章小结第40-42页
第四章 镁合金微弧氧化膜层的性能表征第42-51页
   ·前言第42页
   ·微弧氧化膜层表面(截面)形貌及元素分布第42-44页
   ·微弧氧化膜层的X 射线光电子谱分析第44-45页
   ·微弧氧化膜层的红外光谱分析第45-46页
   ·微弧氧化改性前后膜层接触角及表面能的测定第46-48页
     ·改性前后表面接触角的测定第46-47页
     ·改性前后材料表面表面能的测定第47-48页
   ·微弧氧化膜层的形成机理探讨第48-50页
   ·本章小结第50-51页
第五章 镁合金微弧氧化膜层的相结构研究第51-67页
   ·前言第51页
   ·利用XRD 仪器相结构的研究方法第51-53页
   ·不同穿透厚度微弧氧化膜层的相组成第53-55页
   ·不同工艺下膜层中Mg3(P04)2、MgO 和MgA1204 相结晶度的计算第55-57页
   ·电压对MgO 和Mg_3(P0_4)_2 相晶粒尺寸和晶格常数的影响第57-61页
     ·电压对膜层中Mg_3(P0_4)_2(200)峰晶粒尺寸和晶格常数的影响第58-59页
     ·电压对膜层中MgO (200)峰晶粒尺寸和晶格常数的影响第59-61页
   ·不同工艺下膜层中MgO 相的残余应力变化规律第61-65页
     ·不同电压对膜层中MgO 相的残余应力变化规律第61-63页
     ·不同氧化时间对膜层中MgO 相的残余应力变化规律第63-64页
     ·Mg 基体的残余应力第64-65页
   ·本章小结第65-67页
第六章 微弧氧化膜层耐腐蚀性能研究第67-84页
   ·前言第67页
   ·失重法微弧氧化膜层在SBF 溶液中耐蚀性能第67-76页
     ·不同电解液浓度下制备的膜层腐蚀行为第68-70页
     ·不同电压下制备的膜层腐蚀行为第70-71页
     ·不同氧化时间下制备的膜层腐蚀行为第71-73页
     ·不同电源频率下制备的膜层腐蚀行为第73-74页
     ·未涂层试样与涂层试样腐蚀后扫描形貌对比第74-76页
   ·微弧氧化膜在电化学极化试验中的腐蚀性能第76-81页
     ·不同参数下制备的MAO 膜层的动电位极化曲线第76-80页
     ·未涂层试样与涂层试样的电化学极化试验后扫描形貌对比第80-81页
   ·电化学阻抗分析第81-82页
   ·本章小结第82-84页
结论第84-86页
参考文献第86-93页
攻读硕士学位期间取得的研究成果第93-94页
致谢第94-95页
附件第95页

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