| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 1 绪论 | 第11-21页 |
| 1.1 类金刚石(DLC)薄膜 | 第11-13页 |
| 1.1.1 DLC薄膜的结构 | 第11-12页 |
| 1.1.2 DLC薄膜的性质与应用 | 第12-13页 |
| 1.2 DLC薄膜存在的问题 | 第13-14页 |
| 1.3 DLC薄膜性能的优化 | 第14-16页 |
| 1.3.1 掺杂 | 第14-15页 |
| 1.3.2 多层膜 | 第15-16页 |
| 1.4 DLC薄膜的制备方法 | 第16-20页 |
| 1.4.1 离子源沉积 | 第16-17页 |
| 1.4.2 磁控溅射法 | 第17页 |
| 1.4.3 激光蒸发沉积法 | 第17-18页 |
| 1.4.4 离子源辅助激光蒸发沉积 | 第18-19页 |
| 1.4.5 等离子体增强化学气相沉积法 | 第19页 |
| 1.4.6 阴极电弧蒸发法 | 第19-20页 |
| 1.5 本文的研究目的及内容 | 第20-21页 |
| 2 薄膜的制备方法及性能分析 | 第21-28页 |
| 2.1 双激发源阴极电弧蒸发法沉积薄膜的原理 | 第21-22页 |
| 2.2 本实验所用镀膜装置 | 第22-23页 |
| 2.3 薄膜制备工艺 | 第23-24页 |
| 2.4 薄膜的结构和性能表征 | 第24-28页 |
| 2.4.1 薄膜结构和成分分析 | 第25页 |
| 2.4.2 薄膜表面形态分析 | 第25页 |
| 2.4.3 薄膜厚度分析 | 第25-26页 |
| 2.4.4 薄膜硬度分析 | 第26页 |
| 2.4.5 薄膜内应力分析 | 第26页 |
| 2.4.6 薄膜摩擦学性能分析 | 第26-27页 |
| 2.4.7 薄膜光学性能分析 | 第27-28页 |
| 3 不同脉冲频率下DLC薄膜的制备及其力学性能研究 | 第28-38页 |
| 3.1 引言 | 第28页 |
| 3.2 实验仪器及材料 | 第28-29页 |
| 3.3 薄膜的制备及分析 | 第29-36页 |
| 3.3.1 薄膜的制备 | 第29页 |
| 3.3.2 薄膜的Raman分析 | 第29-31页 |
| 3.3.3 薄膜的XPS分析 | 第31-33页 |
| 3.3.4 薄膜的表面形态分析 | 第33-34页 |
| 3.3.5 薄膜的力学性能分析 | 第34-35页 |
| 3.3.6 薄膜的光学性能分析 | 第35-36页 |
| 3.4 本章小节 | 第36-38页 |
| 4 高Ti(或Cu)合金化DLC薄膜的制备及其力学性能研究 | 第38-49页 |
| 4.1 引言 | 第38页 |
| 4.2 实验仪器及材料 | 第38-39页 |
| 4.3 Ti(或Cu)合金化DLC薄膜的制备及分析 | 第39-48页 |
| 4.3.1 薄膜的制备 | 第39-40页 |
| 4.3.2 薄膜的Raman分析 | 第40-42页 |
| 4.3.3 薄膜的表面形态分析 | 第42-44页 |
| 4.3.4 薄膜的力学性能分析 | 第44-48页 |
| 4.4 本章小节 | 第48-49页 |
| 5 Cr/DLC双层薄膜的制备及其力学性能研究 | 第49-62页 |
| 5.1 引言 | 第49页 |
| 5.2 实验仪器及材料 | 第49-50页 |
| 5.3 Cr/DLC双层薄膜的制备及分析 | 第50-60页 |
| 5.3.1 薄膜的制备 | 第50-51页 |
| 5.3.2 薄膜的Raman分析 | 第51-56页 |
| 5.3.3 薄膜的表面形态分析 | 第56-58页 |
| 5.3.4 薄膜的力学性能分析 | 第58-60页 |
| 5.3.5 薄膜的光学性能分析 | 第60页 |
| 5.4 本章小节 | 第60-62页 |
| 全文结论 | 第62-64页 |
| 主要结论 | 第62-63页 |
| 研究展望 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-72页 |
| 附录 | 第72页 |
