| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-21页 |
| 1.1 多孔AAO膜概述 | 第9-14页 |
| 1.1.1 多孔AAO膜的研究历史和现状 | 第9-10页 |
| 1.1.2 多孔AAO膜的形成过程 | 第10-12页 |
| 1.1.3 多孔AAO膜的形貌结构 | 第12-14页 |
| 1.2 多孔AAO膜的应用 | 第14-18页 |
| 1.2.1 利用多孔AAO膜制备零维纳米材料 | 第15-16页 |
| 1.2.2 利用多孔AAO膜制备一维纳米材料 | 第16-18页 |
| 1.3 本论文的研究内容 | 第18-20页 |
| 1.3.1 研究背景 | 第18-19页 |
| 1.3.2 研究内容 | 第19-20页 |
| 1.4 本章小结 | 第20-21页 |
| 第二章 多孔AAO膜的制备工艺和表征 | 第21-29页 |
| 2.1 阳极氧化步骤 | 第21-23页 |
| 2.1.1 预处理过程 | 第21-22页 |
| 2.1.2 阳极氧化过程 | 第22页 |
| 2.1.3 后期处理过程 | 第22-23页 |
| 2.1.4 实验注意事项 | 第23页 |
| 2.2 实验装置和材料 | 第23-25页 |
| 2.2.1 实验装置 | 第23-24页 |
| 2.2.2 实验材料 | 第24-25页 |
| 2.3 样品表征方法介绍 | 第25-26页 |
| 2.4 预处理过程对制备多孔AAO膜的影响 | 第26-28页 |
| 2.3.1 退火的影响 | 第26-27页 |
| 2.3.2 抛光的影响 | 第27-28页 |
| 2.5 本章小结 | 第28-29页 |
| 第三章 多孔AAO膜的制备工艺改进研究 | 第29-37页 |
| 3.1 常温下两步阳极氧化方法探究 | 第29-31页 |
| 3.1.1 实验过程 | 第29页 |
| 3.1.2 SEM表征 | 第29-30页 |
| 3.1.3 电流密度分析 | 第30-31页 |
| 3.2 对传统两步阳极氧化方法的改进 | 第31-32页 |
| 3.2.1 实验过程 | 第31页 |
| 3.2.2 SEM表征 | 第31-32页 |
| 3.2.3 电流密度分析 | 第32页 |
| 3.3 多孔AAO膜形貌参数分析 | 第32-36页 |
| 3.3.1 孔的大小分布分析 | 第32-33页 |
| 3.3.2 孔的圆度分析 | 第33-34页 |
| 3.3.3 孔径和孔间距大小分析 | 第34-35页 |
| 3.3.4 孔隙率分析 | 第35页 |
| 3.3.5 孔深度分析 | 第35-36页 |
| 3.4 本章小结 | 第36-37页 |
| 第四章 小孔径多孔AAO膜的制备 | 第37-44页 |
| 4.1 电压对多孔膜结构的影响 | 第37-40页 |
| 4.1.1 电压模型的影响 | 第37-39页 |
| 4.1.2 电压大小的影响 | 第39-40页 |
| 4.2 制备参数调控 | 第40-43页 |
| 4.2.1 问题分析 | 第40-41页 |
| 4.2.2 二次阳极氧化时间对多孔AAO膜形貌的影响 | 第41-43页 |
| 4.3 本章小结 | 第43-44页 |
| 第五章 总结与展望 | 第44-46页 |
| 5.1 本文总结 | 第44-45页 |
| 5.2 未来展望 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-52页 |
| 附录1 攻读硕士学位期间撰写的论文 | 第52-53页 |
| 附录2 攻读硕士学位期间参加的科研项目 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54页 |