摘要 | 第5-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第11-23页 |
1.1 课题背景 | 第11页 |
1.2 静电纺丝技术 | 第11-18页 |
1.2.1 静电纺丝简介 | 第11-12页 |
1.2.2 静电纺丝原理 | 第12-14页 |
1.2.3 静电纺丝纳米纤维 | 第14-15页 |
1.2.4 静电纺丝影响因素 | 第15-17页 |
1.2.5 静电纺丝研究进展 | 第17-18页 |
1.3 聚偏氟乙烯 | 第18页 |
1.4 二氧化钛光催化技术 | 第18-21页 |
1.4.1 TiO_2光催化原理 | 第18-19页 |
1.4.2 TiO_2光催化性能改进 | 第19-20页 |
1.4.3 静电纺丝法制备纳米TiO_2 | 第20-21页 |
1.5 本文的主要研究内容 | 第21-23页 |
第2章 静电纺丝法制备PVDF膜及影响因素研究 | 第23-29页 |
2.1 引言 | 第23页 |
2.2 实验试剂与仪器设备 | 第23-24页 |
2.2.1 实验试剂及材料 | 第23-24页 |
2.2.2 实验仪器 | 第24页 |
2.3 PVDF纺丝液的制备 | 第24页 |
2.4 PVDF纺丝工艺参数探究 | 第24-28页 |
2.4.1 纺丝溶剂的比例组成 | 第24-26页 |
2.4.2 纺丝溶液的溶质浓度 | 第26-27页 |
2.4.3 纺丝电压 | 第27-28页 |
2.5 本章小结 | 第28-29页 |
第3章 静电纺丝法制备PVDF/TiO_2复合膜及其性能研究 | 第29-45页 |
3.1 引言 | 第29-30页 |
3.2 实验试剂与实验设备 | 第30-31页 |
3.2.1 实验试剂及材料 | 第30页 |
3.2.2 实验仪器 | 第30-31页 |
3.3 实验过程 | 第31-33页 |
3.3.1 TiO_2溶胶的制备 | 第31-32页 |
3.3.2 纺丝液的配备 | 第32页 |
3.3.3 静电纺丝过程 | 第32页 |
3.3.4 水蒸气处理 | 第32-33页 |
3.4 PVDF/TIO2静纺膜的测试与表征 | 第33-35页 |
3.4.1 膜孔隙率 | 第33页 |
3.4.2 膜力学性能 | 第33-34页 |
3.4.3 SEM分析 | 第34页 |
3.4.4 热性能分析 | 第34页 |
3.4.5 XRD分析 | 第34页 |
3.4.6 傅里叶红外光谱(FTIR)测试 | 第34页 |
3.4.7 光催化降解甲基橙测试 | 第34-35页 |
3.5 结果与讨论 | 第35-43页 |
3.5.1 膜孔隙率 | 第35页 |
3.5.2 力学性能分析 | 第35-36页 |
3.5.3 形貌分析 | 第36-38页 |
3.5.4 热稳定性分析 | 第38-39页 |
3.5.5 XRD分析 | 第39-40页 |
3.5.6 FTIR分析 | 第40-41页 |
3.5.7 光催化性能 | 第41-43页 |
3.6 本章小结 | 第43-45页 |
第4章 N掺杂PVDF/TiO_2复合膜的制备及其性能研究 | 第45-56页 |
4.1 引言 | 第45页 |
4.2 实验试剂与实验设备 | 第45-46页 |
4.2.1 实验试剂及材料 | 第45-46页 |
4.2.2 实验仪器 | 第46页 |
4.3 实验过程 | 第46-47页 |
4.3.1 N掺杂TiO_2溶胶的配备 | 第46-47页 |
4.3.2 纺丝液配备 | 第47页 |
4.3.3 静电纺丝过程 | 第47页 |
4.3.4 水蒸气处理 | 第47页 |
4.4 N掺杂PVDF/TIO2静纺膜的测试与表征 | 第47-48页 |
4.4.1 膜孔隙率 | 第47页 |
4.4.2 膜力学性能 | 第47-48页 |
4.4.3 SEM分析 | 第48页 |
4.4.5 热稳定性分析 | 第48页 |
4.4.6 XRD分析 | 第48页 |
4.4.7 FTIR分析 | 第48页 |
4.4.8 光催化甲基橙测试 | 第48页 |
4.5 结果与讨论 | 第48-54页 |
4.5.1 膜孔隙率 | 第48-49页 |
4.5.2 膜力学性能 | 第49页 |
4.5.3 形貌分析 | 第49-51页 |
4.5.4 热稳定性分析 | 第51-52页 |
4.5.5 XRD分析 | 第52页 |
4.5.6 FTIR分析 | 第52-53页 |
4.5.7 光催化性能 | 第53-54页 |
4.6 本章小结 | 第54-56页 |
结论 | 第56-57页 |
参考文献 | 第57-63页 |
攻读硕士学位期间承担的科研任务与主要成果 | 第63-64页 |
致谢 | 第64页 |