| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 莫来石简介 | 第10-13页 |
| 1.1.1 莫来石的化学成分及晶体结构 | 第10-12页 |
| 1.1.2 莫来石的性质与应用 | 第12页 |
| 1.1.3 Cr:莫来石的激光材料研究 | 第12-13页 |
| 1.2 晶体及晶体生长简介 | 第13-19页 |
| 1.2.1 晶体 | 第13-14页 |
| 1.2.2 晶体生长的意义 | 第14-15页 |
| 1.2.3 常见的人工晶体生长方法简介 | 第15-17页 |
| 1.2.4 光学浮区法 | 第17-19页 |
| 1.3 莫来石及掺杂莫来石的研究现状 | 第19-20页 |
| 1.4 研究课题的提出 | 第20-21页 |
| 1.5 本课题的研究目的及主要研究内容 | 第21-22页 |
| 第2章 实验方法、原理及设备 | 第22-30页 |
| 2.1 光学浮区法晶体生长 | 第22-25页 |
| 2.1.1 光学浮区法晶体生长设备 | 第22-23页 |
| 2.1.2 光学浮区法生长晶体工艺流程 | 第23-25页 |
| 2.2 样品表征方法 | 第25-28页 |
| 2.2.1 晶体样品处理 | 第25页 |
| 2.2.2 X射线衍射分析 | 第25页 |
| 2.2.3 单晶X射线衍射 | 第25-26页 |
| 2.2.4 扫描电镜及电子探针分析 | 第26页 |
| 2.2.5 拉曼光谱 | 第26-27页 |
| 2.2.6 介电性能测试 | 第27页 |
| 2.2.7 透过率 | 第27-28页 |
| 2.2.8 光致发光谱测试 | 第28页 |
| 2.3 本章小结 | 第28-30页 |
| 第3章 3/2 莫来石晶体光学浮区法生长及其物性研究 | 第30-46页 |
| 3.1 3/2 莫来石多晶棒的制备工艺 | 第30-32页 |
| 3.2 3/2 莫来石晶体的光学浮区法生长 | 第32-33页 |
| 3.2.1 自发成核生长 | 第32-33页 |
| 3.2.2 带籽晶生长 | 第33页 |
| 3.3 优化生长工艺 | 第33-35页 |
| 3.3.1 多晶原料棒质量 | 第33-34页 |
| 3.3.2 旋转速度 | 第34页 |
| 3.3.3 生长速度 | 第34页 |
| 3.3.4 籽晶质量 | 第34页 |
| 3.3.5 优化的技术参数 | 第34-35页 |
| 3.4 3/2 莫来石晶体的表征 | 第35-41页 |
| 3.4.1 粉末XRD | 第35-36页 |
| 3.4.2 生长方向的确定 | 第36页 |
| 3.4.3 3/2 莫来石晶体的结晶质量 | 第36-39页 |
| 3.4.4 莫来石晶体的显微结构与组分分析 | 第39-41页 |
| 3.4.5 莫来石晶体的拉曼光谱分析 | 第41页 |
| 3.5 3/2 莫来石晶体的介电和光学性质研究 | 第41-45页 |
| 3.5.1 莫来石晶体的介电性质 | 第41-43页 |
| 3.5.2 莫来石晶体的透过率 | 第43-44页 |
| 3.5.3 莫来石晶体的光致发光谱 | 第44-45页 |
| 3.6 本章小结 | 第45-46页 |
| 第4章 Cr:莫来石晶体的光学浮区法生长与表征 | 第46-56页 |
| 4.1 Cr:莫来石多晶棒的制备工艺 | 第46页 |
| 4.2 Cr:莫来石晶体的光学浮区法生长 | 第46-48页 |
| 4.2.1 Cr:莫来石晶体的光学浮区法生长 | 第46页 |
| 4.2.2 生长Cr:莫来石晶体的最佳工艺参数 | 第46-48页 |
| 4.3 Cr:莫来石晶体的表征与性能研究 | 第48-54页 |
| 4.3.1 Cr:莫来石晶体的物相分析 | 第48-49页 |
| 4.3.2 确定Cr:莫来石晶体的生长方向 | 第49-50页 |
| 4.3.3 Cr:莫来石晶体的单晶X射线衍射 | 第50-51页 |
| 4.3.4 Cr:莫来石晶体的显微结构与组分分析 | 第51-53页 |
| 4.3.5 Cr:莫来石晶体的光致发光谱 | 第53-54页 |
| 4.3.6 掺Cr3+离子光致发光性能改性机理分析 | 第54页 |
| 4.4 本章小结 | 第54-56页 |
| 结论与展望 | 第56-58页 |
| 结论 | 第56-57页 |
| 创新点 | 第57页 |
| 展望 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-64页 |
| 攻读硕士学位期间完成的学术论文及申请的专利 | 第64-66页 |
| 致谢 | 第66页 |