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激光原位反应制备Al2O3-TiO2涂层的温度场和应力场研究

摘要第4-6页
Abstract第6-9页
第一章 绪论第14-22页
    1.1 研究背景、目的、意义第14-16页
        1.1.1 研究背景第14-15页
        1.1.2 本课题研究的目的和意义第15-16页
    1.2 激光熔覆数值模拟的进展第16-20页
        1.2.1 激光熔覆温度场模拟研究现状第17-18页
        1.2.2 激光熔覆应力场模拟研究现状第18-20页
    1.3 激光熔覆温度场和应力场模拟目前存在问题第20页
    1.4 本文研究的内容第20-22页
第二章 Al_2O_3-TiO_2复相陶瓷涂层的制备第22-26页
    2.1 试样材料的选用第22页
    2.2 涂层粉末配置及涂层的制备第22-24页
        2.2.1 涂层粉末的配置第22页
        2.2.2 涂层的制备第22-24页
    2.3 复相陶瓷涂层表征第24-25页
        2.3.1 Al_2O_3-TiO_2涂层的形貌第24页
        2.3.2 复相陶瓷涂层物相表征第24-25页
    2.4 本章小结第25-26页
第三章 有限元模型的建立第26-36页
    3.1 有限元软件概述第26页
    3.2 ANSYS Workbench热分析理论第26-27页
    3.3 数值模型的建立第27-28页
        3.3.1 几何模型建立第27页
        3.3.2 热传递条件的设置第27-28页
    3.4 物理模型的建立第28-34页
        3.4.1 单元类型的选取第28-29页
        3.4.2 网格划分第29页
        3.4.3 材料物性参数第29-30页
        3.4.4 热源模型的选择第30-32页
        3.4.5 相变潜热第32-33页
        3.4.6 陶瓷涂层对激光的吸收率第33-34页
        3.4.7 移动热源的加载第34页
    3.5 本章小结第34-36页
第四章 激光原位反应温度场的模拟分析第36-50页
    4.1 温度场基本分析原理第36-37页
        4.1.1 温度场概述第36页
        4.1.2 温度场热传导方程第36页
        4.1.3 初始条件和边界条件第36-37页
    4.2 温度场的模拟结果第37-41页
        4.2.1 不同时刻的温度场分布第37-38页
        4.2.2 实验与模拟结果的对比第38-41页
    4.3 影响温度场的因素第41-48页
        4.3.1 不同的预热温度对温度场的影响第41-43页
        4.3.2 涂层厚度对温度场的影响第43页
        4.3.3 工艺参数对温度场的影响第43-48页
            4.3.3.1 激光功率对温度场的影响第44-46页
            4.3.3.2 扫描速度对温度场的影响第46-47页
            4.3.3.3 光斑直径对温度场的影响第47-48页
    4.4 本章小结第48-50页
第五章 激光原位反应应力场的模拟分析第50-64页
    5.1 残余应力产生的原因及其分类第50-51页
    5.2 残余应力的测量方法第51页
    5.3 残余应力的数值模拟计算第51-52页
    5.4 有限元弹性力学计算第52-54页
    5.5 单层多道应力场模拟分析第54-57页
    5.6 不同服役温度下残余应力的变化第57-58页
    5.7 工艺参数对残余应力场的影响第58-62页
        5.7.1 涂层厚度对应力场的影响第59-60页
        5.7.2 激光工艺参数对应力场的影响第60-62页
    5.8 结论第62-64页
第六章 总结与展望第64-66页
    6.1 总结第64-65页
    6.2 展望第65-66页
参考文献第66-72页
攻读硕士期间的科研成果第72-74页
附录第74-76页
致谢第76页

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