| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 CuCrO_2材料体系综述 | 第12-26页 |
| 1.1 铜铁矿结构材料的研究背景和进展 | 第12-13页 |
| 1.2 晶体结构与电子结构 | 第13-16页 |
| 1.3 热电输运性能及电阻率各向异性 | 第16-19页 |
| 1.4 激光感生电压(LIV)效应介绍 | 第19-22页 |
| 1.5 应用前景 | 第22-24页 |
| 1.6 研究意义和内容 | 第24-26页 |
| 1.6.1 研究目的及意义 | 第24页 |
| 1.6.2 研究的主要内容 | 第24-26页 |
| 第二章 实验方法 | 第26-42页 |
| 2.1 多晶制备 | 第26-27页 |
| 2.2 薄膜制备 | 第27-33页 |
| 2.2.1 PLD系统与工作原理 | 第28-31页 |
| 2.2.2 PLD技术特点与工艺变量 | 第31-33页 |
| 2.3 材料的表征 | 第33-36页 |
| 2.3.1 多晶XRD表征 | 第33-34页 |
| 2.3.2 薄膜XRD表征 | 第34-35页 |
| 2.3.3 SEM表征 | 第35-36页 |
| 2.4 材料的性能测试 | 第36-39页 |
| 2.4.1 电阻率-温度曲线 | 第36-37页 |
| 2.4.2 热电势-温度曲线 | 第37-38页 |
| 2.4.3 多晶块材磁学性能测试原理 | 第38-39页 |
| 2.4.4 激光感生电压信号测试 | 第39页 |
| 2.5 本章小结 | 第39-42页 |
| 第三章 CuCr_(1-x)Mg_xO_2多晶制备及性能研究 | 第42-56页 |
| 3.1 CuCr_(1-x)Mg_xO_2多晶制备 | 第42-43页 |
| 3.1.1 原料准备 | 第42页 |
| 3.1.2 工艺流程 | 第42-43页 |
| 3.2 CuCr_(1-x)Mg_xO_2多晶的表征 | 第43-47页 |
| 3.2.1 XRD相结构表征 | 第43-44页 |
| 3.2.2 SEM形貌观察 | 第44-47页 |
| 3.3 CuCr_(1-x)Mg_xO_2多晶的热电输运性能 | 第47-53页 |
| 3.3.1 电阻率温度曲线 | 第47-49页 |
| 3.3.2 热电势-温度曲线 | 第49-52页 |
| 3.3.3 CuCrO_2多晶的磁性质 | 第52-53页 |
| 3.4 本章小结 | 第53-56页 |
| 第四章 CuCr_(1-x)Mg_xO_2薄膜制备及电输运性质和LIV效应 | 第56-78页 |
| 4.1 薄膜生长 | 第56-57页 |
| 4.1.1 衬底和靶材 | 第56页 |
| 4.1.2 制备流程及生长工艺 | 第56-57页 |
| 4.2 薄膜相结构和取向表征 | 第57-67页 |
| 4.2.1 平直薄膜的XRD表征 | 第57-60页 |
| 4.2.2 倾斜薄膜的XRD表征 | 第60-67页 |
| 4.3 薄膜的ρ-T测量及电输运各向异性 | 第67-72页 |
| 4.3.1 平直薄膜的ρ-T曲线 | 第67页 |
| 4.3.2 平直与倾斜衬底上薄膜的ρ-T曲线对比 | 第67-68页 |
| 4.3.3 电阻率各向异性推导 | 第68-70页 |
| 4.3.4 CuCr_(1-x)Mg_xO_2薄膜中的电输运各向异性 | 第70-72页 |
| 4.4 c轴倾斜薄膜的LIV效应及机制探索 | 第72-76页 |
| 4.4.1 Mg掺杂量对CuCr_(1-x)Mg_xO_2薄膜的LIV响应 | 第72-73页 |
| 4.4.2 不同倾斜角度对CuCr_(0.92)Mg_(0.08)O_2薄膜的LIV响应 | 第73-75页 |
| 4.4.3 不同激光能量密度对CuCr_(0.92)Mg_(0.08)O_2薄膜的LIV响应 | 第75页 |
| 4.4.4 薄膜LIV效应的机制讨论 | 第75-76页 |
| 4.5 本章小结 | 第76-78页 |
| 第五章 结论与展望 | 第78-80页 |
| 5.1 结论 | 第78-79页 |
| 5.2 创新点和展望 | 第79-80页 |
| 5.2.1 创新点 | 第79页 |
| 5.2.2 展望 | 第79-80页 |
| 致谢 | 第80-82页 |
| 参考文献 | 第82-90页 |
| 附录 硕士期间发表的论文 | 第90页 |
