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化学共沉淀法制备ZnO压敏电阻器及其性能研究

摘要第5-6页
ABSTRACT第6-7页
符号对照表第11-12页
缩略语对照表第12-15页
第一章 绪论第15-21页
    1.1 压敏电阻器的研究意义第15-16页
    1.2 国内外的研究现状第16-19页
    1.3 实验选题的确立第19-21页
第二章 ZnO压敏电阻器的结构及相关机理第21-37页
    2.1 ZnO压敏电阻器的基本结构第21-23页
        2.1.1 ZnO压敏电阻器的晶相第21-22页
        2.1.2 ZnO压敏电阻器的晶界能带结构第22-23页
    2.2 ZnO压敏电阻器的电性能第23-28页
        2.2.1 ZnO压敏电阻器的压敏电压第24页
        2.2.2 ZnO压敏电阻器的非线性系数第24-25页
        2.2.3 ZnO压敏电阻器的漏电流第25页
        2.2.4 ZnO压敏电阻器的能量吸收能力第25-27页
        2.2.5 ZnO压敏电阻器的残压比第27-28页
    2.3 ZnO压敏电阻器的界面导电机理第28-30页
    2.4 ZnO压敏电阻器的蜕化机理第30-32页
    2.5 ZnO压敏电阻器的失效机理第32-34页
        2.5.1 破裂破坏机理第32-34页
        2.5.2 穿孔破坏机理第34页
    2.6 ZnO压敏电阻器的液相烧结机理第34-37页
第三章 化学共沉淀法制备纳米复合添加剂的研究第37-59页
    3.1 化学共沉淀法第38-41页
        3.1.1 化学共沉淀法第38-39页
        3.1.2 化学共沉淀法的主要影响因素第39-41页
    3.2 ZnO压敏电阻器中的添加剂第41-45页
        3.2.1 各添加剂的作用第41-44页
        3.2.2 复合添加剂组成的确定第44-45页
    3.3 复合添加剂的制备第45-50页
        3.3.1 实验过程第45-47页
        3.3.2 微调pH值对复合添加剂粉体的影响第47-49页
        3.3.3 粉体的XRD衍射分析第49-50页
    3.4 预烧温度对复合添加剂粉体的影响第50-59页
        3.4.1 复合添加剂前躯体的最佳预烧温度第50-52页
        3.4.2 最佳预烧温度的优化第52-59页
第四章 ZnO压敏电阻器制备和性能测试第59-71页
    4.1 ZnO压敏电阻器的制备第59-61页
        4.1.1 实验所需仪器第59页
        4.1.2 ZnO压敏电阻器的制备工艺流程第59-61页
    4.2 ZnO压敏电阻元件性能测试第61-64页
        4.2.1 ZnO压敏电阻元件的SEM扫描电镜测试第61-62页
        4.2.2 压敏元件的小电流和通流能力测试第62-64页
    4.3 热老练工艺对ZnO压敏电阻器性能的影响第64-67页
        4.3.1 热老练的原理第64页
        4.3.2 热老练实验及分析第64-67页
    4.4 电老练工艺对ZnO压敏电阻器性能的影响第67-71页
        4.4.1 电老练的原理第67页
        4.4.2 电老练实验及分析第67-71页
第五章 总结与展望第71-73页
参考文献第73-77页
致谢第77-79页
作者简介第79-80页

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