中文摘要 | 第4-6页 |
英文摘要 | 第6-8页 |
第一章 绪论 | 第12-46页 |
1.1 引言 | 第12页 |
1.2 多铁性材料概述 | 第12-14页 |
1.3 多铁性机制分类 | 第14-29页 |
1.3.1 离子复合导致多铁性 | 第15-16页 |
1.3.2 孤对电子导致多铁性 | 第16-18页 |
1.3.3 非共线螺旋自旋序导致的铁电性 | 第18-20页 |
1.3.4 E型共线反铁磁序导致的铁电性 | 第20-21页 |
1.3.5 共线反铁磁序与亚铁电体系 | 第21-24页 |
1.3.6 几何铁电性 | 第24-26页 |
1.3.7 混合型非常规铁电性 | 第26-29页 |
1.4 正交RMnO_3多铁性相图 | 第29-31页 |
1.5 薄膜技术在多铁性材料中的应用 | 第31-34页 |
1.6 本论文的研究目的和内容安排 | 第34-37页 |
1.7 参考文献 | 第37-46页 |
第二章 关键实验技术与方法 | 第46-63页 |
2.1 引言 | 第46页 |
2.2 薄膜制备技术(脉冲激光沉积) | 第46-47页 |
2.3 结构表征 | 第47-53页 |
2.3.1 X射线衍射 | 第47-49页 |
2.3.2 倒易空间图 | 第49-51页 |
2.3.3 电子显微镜(SEM与TEM) | 第51-53页 |
2.4 磁电物性测量 | 第53-60页 |
2.4.1 SQUID磁性测量系统 | 第53-54页 |
2.4.2 PPMS低温系统 | 第54-55页 |
2.4.3 电极制作方法 | 第55-56页 |
2.4.4 PUND铁电回线测量方法 | 第56-58页 |
2.4.5 热释电电流测量方法 | 第58-60页 |
2.5 本章小结 | 第60-61页 |
2.6 参考文献 | 第61-63页 |
第三章 GdMnO_3外延薄膜微结构及多铁性的研究 | 第63-83页 |
3.1 背景介绍 | 第63-65页 |
3.2 样品制备及实验方法 | 第65-68页 |
3.2.1 多晶GdMnO_3靶材的制备 | 第65-66页 |
3.2.2 GdMnO_3外延薄膜生长 | 第66-68页 |
3.3 实验结果 | 第68-76页 |
3.3.1 XRD结构表征 | 第68-70页 |
3.3.2 高分辨透射电子显微镜图 | 第70-72页 |
3.3.3 元素成分分析 | 第72-73页 |
3.3.4 GdMnO_3薄膜的磁性 | 第73-74页 |
3.3.5 GdMnO_3薄膜的铁电性 | 第74-76页 |
3.4 讨论 | 第76-77页 |
3.5 本章小结 | 第77-79页 |
3.6 参考文献 | 第79-83页 |
第四章 GdMn_2O_5中室温铁电相对低温磁致多铁性的调控 | 第83-102页 |
4.1 背景介绍 | 第83-85页 |
4.2 GdMn_2O_5样品制备 | 第85-86页 |
4.3 实验结果 | 第86-92页 |
4.3.1 XRD结构表征 | 第86页 |
4.3.2 SEM及元素分析 | 第86-87页 |
4.3.3 常规多铁性质表征 | 第87-90页 |
4.3.4 依赖极化过程的铁电性 | 第90-92页 |
4.4 讨论 | 第92-97页 |
4.4.1 室温铁电极化诱导局域自旋序 | 第92-95页 |
4.4.2 模型的验证 | 第95-97页 |
4.5 本章小结 | 第97-98页 |
4.6 参考文献 | 第98-102页 |
第五章 Ca_3Ti_2O_7外延薄膜微结构及非常规铁电性的研究 | 第102-123页 |
5.1 背景介绍 | 第102-104页 |
5.2 样品制备及实验方法 | 第104-105页 |
5.2.1 多晶Ca_3Ti_2O_7靶材的制备 | 第104-105页 |
5.2.2 Ca_3Ti_2O_7外延薄膜生长 | 第105页 |
5.3 实验结果 | 第105-115页 |
5.3.1 XRD结构表征 | 第105-109页 |
5.3.2 高分辨TEM及选区电子衍射 | 第109-111页 |
5.3.3 铁电性质表征 | 第111-115页 |
5.4 讨论 | 第115-118页 |
5.4.1 第一性原理计算 | 第115-116页 |
5.4.2 晶格缺陷分析 | 第116-118页 |
5.5 本章小结 | 第118-119页 |
5.6 参考文献 | 第119-123页 |
第六章 结论与展望 | 第123-125页 |
6.1 结论 | 第123-124页 |
6.2 展望 | 第124-125页 |
攻读学位期间发表、待发表学术论文 | 第125-127页 |
致谢 | 第127-129页 |