| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-10页 |
| 第一章 研究背景 | 第10-24页 |
| 1 分子筛的研究进展 | 第10-12页 |
| 2 MWW分子筛的结构特征 | 第12-15页 |
| 3 Ti-MWW分子筛的制备方法 | 第15-18页 |
| 4 MWW分子筛的后处理结构修饰 | 第18-23页 |
| 5 论文思路 | 第23-24页 |
| 第二章 实验方法 | 第24-28页 |
| 1 化学试剂 | 第24-25页 |
| 2 材料表征手段 | 第25-26页 |
| 3 材料评价 | 第26-28页 |
| 第三章 MWW型层状分子筛的结构改性 | 第28-54页 |
| 1 引言 | 第28-29页 |
| 2 实验部分 | 第29-30页 |
| ·B-MWW前躯体的制备 | 第29页 |
| ·B-MWW前躯体的室温溶胀 | 第29-30页 |
| ·IEZ-B-MWW的制备 | 第30页 |
| ·IEZ-B-MWW(Si)-reflux的制备 | 第30页 |
| ·IEZ-B-MWW(SiSi/SiOSi)-reflux的制备 | 第30页 |
| ·IEZ-B-MWW(SiSi/SiOSi)-423 K的制备 | 第30页 |
| 3 结果与讨论 | 第30-52页 |
| ·B-MWW前躯体的制备 | 第30-32页 |
| ·B-MWW前躯体的室温溶胀 | 第32-35页 |
| ·IEZ-B-MWW的制备 | 第35-52页 |
| ·TPAOH用量的影响 | 第35-36页 |
| ·硅烷化试剂用量的影响 | 第36-40页 |
| ·焙烧对结构的影响 | 第40-42页 |
| ·插硅过程溶剂的影响 | 第42-44页 |
| ·不同插硅条件的影响 | 第44-45页 |
| ·不同硅烷化试剂的影响 | 第45-50页 |
| ·IEZ-MWW分子筛的性质 | 第50-52页 |
| 4 本章小结 | 第52-54页 |
| 第四章 液固相置换法制备Ti-MWW-LS及其催化性能的研究 | 第54-74页 |
| 1 引言 | 第54页 |
| 2 实验部分 | 第54-56页 |
| ·插硅与补钛同时进行 | 第54-55页 |
| ·先补钛,后插硅 | 第55页 |
| ·先插硅,后补钛 | 第55-56页 |
| ·参考样品的制备 | 第56页 |
| ·水热合成法制备Ti-MWW | 第56页 |
| ·液固相置换法制备IEZ-Ti-MWW(Si)-Cal-LS | 第56页 |
| 3 结果与讨论 | 第56-72页 |
| ·插硅与补钛同时进行 | 第56-58页 |
| ·先补钛,后插硅 | 第58-63页 |
| ·先插硅,后补钛 | 第63-72页 |
| ·焙烧温度的影响 | 第63-69页 |
| ·SiSi-Cal-773K-LS样品的表征 | 第69-70页 |
| ·参考样品的表征 | 第70-71页 |
| ·催化活性的比较 | 第71-72页 |
| 4 本章小结 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-79页 |
| 致谢 | 第79页 |
