| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-19页 |
| ·引言 | 第12-13页 |
| ·AlN 的基本性质 | 第13-14页 |
| ·AlN 的应用 | 第14-15页 |
| ·压电材料 | 第14-15页 |
| ·外延缓冲层材料 | 第15页 |
| ·发光层材料 | 第15页 |
| ·AlN 薄膜的研究进展 | 第15-18页 |
| ·高取向度的AlN 薄膜制备技术 | 第15-16页 |
| ·单晶AlN 薄膜生长技术 | 第16-17页 |
| ·AlN 复合薄膜制备技术 | 第17-18页 |
| ·本课题研究的主要内容 | 第18-19页 |
| 第二章 AlN 薄膜的制备方法 | 第19-29页 |
| ·AlN 薄膜的常用制备方法 | 第19-21页 |
| ·化学气相沉沉积法（CVD） | 第19-20页 |
| ·物理气相沉积法（PVD） | 第20-21页 |
| ·脉冲激光沉积技术 | 第21-28页 |
| ·脉冲激光沉积技术概述 | 第21-22页 |
| ·脉冲激光沉积原理 | 第22-27页 |
| ·脉冲激光沉积技术特点 | 第27-28页 |
| ·本章小结 | 第28-29页 |
| 第三章 AlN 薄膜的实验制备与表征 | 第29-38页 |
| ·实验设计及方案 | 第29页 |
| ·实验过程 | 第29-33页 |
| ·实验设备 | 第29-31页 |
| ·衬底的准备 | 第31页 |
| ·实验步骤 | 第31-33页 |
| ·AlN 薄膜的表征 | 第33-37页 |
| ·X 射线衍射分析（XRD） | 第33-35页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM) | 第35-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 第四章 激光能量密度对AlN 薄膜结构的影响 | 第38-46页 |
| ·样品的制备 | 第38-39页 |
| ·激光能量密度对AlN 薄膜生长取向的影响 | 第39-40页 |
| ·激光能量密度对AlN 薄膜厚度的影响 | 第40-42页 |
| ·激光能量密度对AlN 薄膜晶粒大小的影响 | 第42-43页 |
| ·激光能量密度对AlN 薄膜表面形貌的影响 | 第43-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第五章 环境气压对AlN 薄膜结构的影响 | 第46-52页 |
| ·样品的制备 | 第46页 |
| ·环境气压对AlN 薄膜的结晶和生长取向的影响 | 第46-48页 |
| ·环境气压对AlN 薄膜的晶粒大小的影响 | 第48-49页 |
| ·环境气压对AlN 薄膜表面形貌的影响 | 第49-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 第六章 衬底温度对AlN 薄膜结构的影响 | 第52-60页 |
| ·样品的制备 | 第52页 |
| ·衬底温度对AlN 薄膜结晶和取向的影响 | 第52-54页 |
| ·衬底温度对AlN 薄膜晶粒大小和成膜速率的影响 | 第54-56页 |
| ·衬底温度对AlN 薄膜表面形貌的影响 | 第56-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 第七章 结论与展望 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 硕士学位在读期间发表的论文 | 第66页 |