| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-14页 |
| 1.1 课题研究背景及意义 | 第10-11页 |
| 1.2 聚酰亚胺及复合薄膜的研究现状 | 第11-13页 |
| 1.3 本论文主要研究内容 | 第13-14页 |
| 第2章 实验材料及测试方法 | 第14-18页 |
| 2.1 实验原料与实验仪器 | 第14-15页 |
| 2.1.1 实验原料 | 第14页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第14-15页 |
| 2.2 结构测试方法 | 第15页 |
| 2.2.1 红外吸收光谱测试(FTIR) | 第15页 |
| 2.2.2 扫描电镜(SEM) | 第15页 |
| 2.2.3 小角X射线散射测试(SAXS) | 第15页 |
| 2.3 性能测试方法 | 第15-17页 |
| 2.3.1 光刺激放电(PSD)测试 | 第15-16页 |
| 2.3.2 介电谱测试 | 第16页 |
| 2.3.3 交流击穿场强测试 | 第16页 |
| 2.3.4 耐电晕寿命测试 | 第16-17页 |
| 2.4 本章小结 | 第17-18页 |
| 第3章 PI/SiO_2和PI/TiO_2复合薄膜的制备 | 第18-23页 |
| 3.1 纳米颗粒结构及特性 | 第18-20页 |
| 3.1.1 纳米二氧化钛的结构及特性 | 第18-19页 |
| 3.1.2 纳米二氧化硅的结构及特性 | 第19-20页 |
| 3.2 PI/SiO_2和PI/TiO_2复合薄膜的制备流程 | 第20-22页 |
| 3.2.1 聚酰亚胺的合成机理 | 第20-21页 |
| 3.2.2 复合薄膜的制备 | 第21-22页 |
| 3.3 本章小结 | 第22-23页 |
| 第4章 颗粒掺杂对复合薄膜结构的影响 | 第23-37页 |
| 4.1 复合薄膜表面及断面形貌 | 第23-25页 |
| 4.1.1 PI/TiO_2复合薄膜表面及断面形貌 | 第23-24页 |
| 4.1.2 PI/SiO_2复合薄膜表面及断面形貌 | 第24-25页 |
| 4.1.3 PI/TiO_2和PI/SiO_2复合薄膜形貌测试结果对比 | 第25页 |
| 4.2 红外吸收光谱测试(FTIR) | 第25-28页 |
| 4.2.1 PI/TiO_2复合薄膜红外吸收光谱 | 第26-27页 |
| 4.2.2 PI/SiO_2复合薄膜红外吸收光谱 | 第27-28页 |
| 4.2.3 PI/TiO_2和PI/SiO_2复合薄膜FTIR测试结果对比 | 第28页 |
| 4.3 小角X射线散射测试(SAXS) | 第28-36页 |
| 4.3.1 PI/TiO_2复合薄膜的SAXS结构表征 | 第28-33页 |
| 4.3.2 PI/SiO_2复合薄膜的SAXS结构表征 | 第33-36页 |
| 4.3.3 PI/TiO_2和PI/SiO_2复合薄膜SAXS测试结果对比 | 第36页 |
| 4.4 本章小结 | 第36-37页 |
| 第5章 颗粒掺杂对复合薄膜性能的影响 | 第37-54页 |
| 5.1 光激电流法测试陷阱能级 | 第37-42页 |
| 5.2 复合薄膜的介电性能 | 第42-50页 |
| 5.2.1 PI/TiO_2复合薄膜的介电性能 | 第43-47页 |
| 5.2.2 PI/SiO_2复合薄膜的介电性能 | 第47-50页 |
| 5.2.3 介电性能实验结果与讨论 | 第50页 |
| 5.3 交流击穿场强和耐电晕测试结果与分析 | 第50-53页 |
| 5.3.1 复合薄膜的交流击穿场强 | 第50-51页 |
| 5.3.2 复合薄膜的耐电晕寿命 | 第51-53页 |
| 5.4 本章小结 | 第53-54页 |
| 结论 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-61页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62页 |
