| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-11页 |
| 1 绪论 | 第11-31页 |
| ·引言 | 第11-12页 |
| ·半导体光催化简介 | 第12-15页 |
| ·半导体光催化原理 | 第12-13页 |
| ·半导体光催化材料 | 第13页 |
| ·影响光催化材料性能的主要因素 | 第13-15页 |
| ·石墨相氮化碳(g-C_3N_4)材料简介 | 第15-23页 |
| ·g-C_3N_4的研究历史及结构概述 | 第15-16页 |
| ·g-C_3N_4的制备 | 第16-20页 |
| ·固相反应法 | 第16-18页 |
| ·溶剂热法 | 第18页 |
| ·电化学沉积法 | 第18-19页 |
| ·热聚合法 | 第19-20页 |
| ·g-C_3N_4在光催化领域的运用 | 第20-22页 |
| ·光催化降解污染物 | 第20页 |
| ·光催化水解制氢制氧 | 第20-21页 |
| ·光催化有机合成 | 第21页 |
| ·光催化氧气还原 | 第21-22页 |
| ·g-C_3N_4在其他领域的应用 | 第22-23页 |
| ·反应前驱物 | 第22页 |
| ·催化剂载体和储能材料 | 第22-23页 |
| ·传感器 | 第23页 |
| ·提升g-C_3N_4光催化性能的方法及研究进展 | 第23-28页 |
| ·复合改性 | 第24-25页 |
| ·掺杂改性 | 第25-26页 |
| ·微观结构调整 | 第26-28页 |
| ·多孔结构 | 第27-28页 |
| ·纳米颗粒和纳米棒 | 第28页 |
| ·纳米薄层 | 第28页 |
| ·本文的选题依据及主要研究内容 | 第28-30页 |
| ·选题依据 | 第28-29页 |
| ·主要研究内容 | 第29-30页 |
| ·项目来源 | 第30-31页 |
| 2 实验部分 | 第31-36页 |
| ·实验原料和仪器 | 第31-32页 |
| ·实验原料 | 第31页 |
| ·实验仪器 | 第31页 |
| ·测试仪器 | 第31-32页 |
| ·实验方法 | 第32-36页 |
| ·g-C_3N_4的氧化刻蚀改性 | 第32-33页 |
| ·光沉积法制备Ag/g-C_3N_4复合纳米片 | 第33页 |
| ·g-C_3N_4的球磨改性 | 第33页 |
| ·混合前驱体煅烧制备高结晶性g-C_3N_4纳米片 | 第33-35页 |
| ·材料的光催化性能表征 | 第35-36页 |
| 3 g-C_3N_4氧化刻蚀改性工艺及性能研究 | 第36-49页 |
| ·g-C_3N_4氧化刻蚀改性工艺对其光催化性能的影响 | 第36-41页 |
| ·乙酸加入量对g-C_3N_4氧化刻蚀改性后光催化性能的影响 | 第36-37页 |
| ·H_2O_2加入量对g-C_3N_4改性后光催化性能的影响 | 第37-39页 |
| ·改性温度对g-C_3N_4改性后光催化性能的影响 | 第39-41页 |
| ·g-C_3N_4改性前后的材料表征 | 第41-46页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第41-42页 |
| ·红外光谱(IR) | 第42-43页 |
| ·扫描电镜(SEM)及能谱分析(EDS) | 第43页 |
| ·透射电镜表征(TEM) | 第43-44页 |
| ·紫外-可见漫散射谱(UV-vis) | 第44-45页 |
| ·荧光光谱(PL) | 第45-46页 |
| ·氧化刻蚀改性g-C_3N_4光催化提升机理探讨 | 第46-47页 |
| ·本章小结 | 第47-49页 |
| 4 Ag/g-C_3N_4复合纳米片光催化材料制备工艺优选及性能研究 | 第49-58页 |
| ·Ag/g-C_3N_4复合纳米片光催性能的研究 | 第49-51页 |
| ·Ag/g-C_3N_4纳米片的样品表征 | 第51-55页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第51页 |
| ·红外光谱(IR) | 第51-52页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS) | 第52-53页 |
| ·透射电镜表征(TEM) | 第53-54页 |
| ·紫外-可见吸收光谱(UV-vis) | 第54-55页 |
| ·荧光光谱(PL) | 第55页 |
| ·Ag/g-C_3N_4纳米片光催化性能提升机理探讨 | 第55-56页 |
| ·本章小结 | 第56-58页 |
| 5 球磨改性g-C_3N_4的工艺探索和性能研究 | 第58-63页 |
| ·球磨时间对改性g-C_3N_4光催化性能的影响 | 第58-59页 |
| ·球磨改性g-C_3N_4的样品表征 | 第59-62页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第59-60页 |
| ·透射电镜表征(TEM) | 第60-61页 |
| ·紫外-可见吸收光谱(UV-vis) | 第61-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 6 高结晶性g-C_3N_4纳米片的制备工艺探索及性能研究 | 第63-80页 |
| ·混合前驱体煅烧制备g-C_3N_4纳米片的工艺对其光催化性能的影响 | 第63-70页 |
| ·尿素与三聚氰胺的配比对制备g-C_3N_4纳米片光催化降解罗丹明B性能的影响 | 第63-65页 |
| ·煅烧时间对混合前驱体制备g-C_3N_4纳米片光催化降解罗丹明B性能的影响 | 第65-66页 |
| ·温度对混合前驱体制备g-C_3N_4纳米片光催化降解罗丹明B性能的影响 | 第66-68页 |
| ·烧结密闭性对制备g-C_3N_4纳米片光催化降解罗丹明B性能的影响 | 第68-69页 |
| ·UCN、MCN、UMCN-5：2的光催化降解亚甲基蓝表征 | 第69-70页 |
| ·混合前驱体煅烧制备g-C_3N_4纳米片的样品表征 | 第70-77页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第70-72页 |
| ·透射电镜表征(TEM) | 第72-73页 |
| ·高分辨透射电镜表征(HRTEM) | 第73-74页 |
| ·紫外-可见吸收光谱(UV-vis) | 第74-76页 |
| ·荧光光谱(PL) | 第76页 |
| ·阻抗(EIS) | 第76-77页 |
| ·光催化提升机理 | 第77-78页 |
| ·本章小结 | 第78-80页 |
| 7 全文总结及展望 | 第80-82页 |
| 参考文献 | 第82-88页 |
| 致谢 | 第88-89页 |
| 攻读硕士期间主要成绩 | 第89-90页 |
