近场全息制作软X射线衍射光栅的相关问题研究

摘要	第1-6页
ABSTRACT	第6-10页
第一章 绪论	第10-18页
·引言	第10-11页
·近场全息概述	第11-16页
·近场全息基本原理与特点	第11-12页
·近场全息研究现状	第12-15页
·近场全息制作软X射线光栅的关键与基本问题	第15-16页
·选题背景和研究内容	第16-17页
·本章小结	第17-18页
第二章 抑制近场全息中界面反射方法的比较研究	第18-28页
·引言	第18页
·两种抑制近场全息中界面反射方法概述	第18-19页
·利用减反膜法抑制界面反射的可行性分析	第19-21页
·两种界面反射抑制方式近场全息的实验比较	第21-27页
·近场全息法的制作工艺	第21-22页
·近场全息光刻胶光栅的远场衍射	第22-23页
·近场全息-离子束刻蚀光栅的衍射效率	第23-27页
·本章小结	第27-28页
第三章 近场全息制作变间距光栅的初步研究	第28-40页
·引言	第28页
·近场全息熔石英变间距光栅掩模的优化设计	第28-34页
·基本设计要求	第28-30页
·非对称曝光	第30-31页
·对比度	第31-34页
·近场全息变间距光栅的实验研究	第34-39页
·熔石英变间距光栅掩模的表征	第34-35页
·对比度对近场全息制作变间距光栅的影响	第35-37页
·近场全息-离子束刻蚀变间距光栅的衍射效率	第37-39页
·本章小结	第39-40页
第四章 结论和展望	第40-42页
·论文工作总结	第40-41页
·下一步工作展望	第41-42页
参考文献	第42-46页
在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果	第46-48页
致谢	第48-49页