摘要 | 第1-4页 |
ABSTRACT | 第4-7页 |
1 绪论 | 第7-16页 |
·MEMS概述 | 第7-10页 |
·MEMS概念 | 第7页 |
·MEMS的特点 | 第7-8页 |
·MEMS的应用和发展 | 第8-9页 |
·MEMS加工技术和工艺 | 第9-10页 |
·压电材料简介 | 第10-12页 |
·压电材料工作原理 | 第10页 |
·锆钛酸铅简介 | 第10-11页 |
·镍酸镧电极薄膜 | 第11-12页 |
·用于MEMS的压电薄膜国内外发展状况 | 第12-14页 |
·ZnO | 第12页 |
·AlN | 第12-13页 |
·PZT | 第13-14页 |
·铌掺杂PZT薄膜(PNZT) | 第14页 |
·本论文研究目的及意义 | 第14页 |
·本论文主要研究内容 | 第14-16页 |
2 压电式MEMS悬臂梁理论分析与优化 | 第16-31页 |
·PNZT压电薄膜微悬臂梁的结构设计 | 第16页 |
·压电式MEMS悬臂梁的工作原理 | 第16-17页 |
·压电方程 | 第17-20页 |
·压电悬臂梁动力学分析 | 第20-22页 |
·压电悬臂梁谐振分析 | 第22-23页 |
·压电MEMS悬臂梁的有限元优化分析 | 第23-30页 |
·压电式MEMS悬臂梁有限元模型的建立 | 第23-25页 |
·压电式MEMS悬臂梁的有限元静态分析 | 第25-29页 |
·压电式MEMS悬臂梁的有限元模态分析 | 第29-30页 |
·本章小结 | 第30-31页 |
3 LNO电极和PNZT压电薄膜的的制备、表征和性能测试 | 第31-40页 |
·LNO电极的制备、表征和性能测试 | 第31-33页 |
·磁控溅射装置及其工作原理 | 第31-32页 |
·LNO薄膜的制备工艺流程和参数 | 第32-33页 |
·PNZT薄膜的制备、表征和性能测试 | 第33-39页 |
·PNZT薄膜的制备 | 第33-36页 |
·PNZT薄膜的表征和性能测试 | 第36-39页 |
·本章小结 | 第39-40页 |
4 压电式MEMS悬臂梁的制作工艺研究 | 第40-47页 |
·压电式MEMS悬臂梁的工艺流程设计 | 第40-41页 |
·MEMS制作技术和工艺简介 | 第41-43页 |
·光刻技术 | 第41页 |
·刻蚀技术 | 第41-43页 |
·压电式MEMS悬臂梁的制作工艺 | 第43页 |
·LNO下电极薄膜的制备 | 第43页 |
·PNZT压电薄膜的制备 | 第43页 |
·Pt上电极的制备 | 第43-44页 |
·PNZT和LNO薄膜的图形化 | 第44-45页 |
·深硅刻蚀工艺 | 第45-46页 |
·本章小结 | 第46-47页 |
5 压电式MEMS悬臂梁的振动模态分析 | 第47-53页 |
·压电式MEMS悬臂梁的振动模态测试原理及方法 | 第47-48页 |
·压电式MEMS悬臂梁的振动模态测试 | 第48-52页 |
·本章小结 | 第52-53页 |
6 结论 | 第53-55页 |
参考文献 | 第55-59页 |
申请学位期间的研究成果及发表的学术论文 | 第59-60页 |
致谢 | 第60页 |