摘要 | 第1-8页 |
Abstract | 第8-14页 |
第1章 绪论 | 第14-25页 |
·介孔材料概述 | 第14-19页 |
·硅基介孔材料功能化 | 第14-17页 |
·功能化硅基介孔材料的应用 | 第17-19页 |
·表面印迹技术概述 | 第19-22页 |
·表面印迹聚合物基本原理及发展趋势 | 第19-20页 |
·活性/可控自由基聚合(CRP)在表面印迹领域的应用 | 第20-21页 |
·基于多功能基质材料的表面印迹技术 | 第21页 |
·构建新型预聚合体系制备表面印迹聚合物 | 第21-22页 |
·金属污染物概述 | 第22-23页 |
·课题的研究背景及研究内容 | 第23-25页 |
·研究背景 | 第23页 |
·研究内容 | 第23-25页 |
第2章 共缩聚法制备铅离子印迹介孔硅吸附剂及其在固定床实验中的应用研究 | 第25-47页 |
·实验部分 | 第26-30页 |
·仪器与试剂 | 第26-27页 |
·铅离子印迹介孔硅的制备 | 第27页 |
·静态吸附实验 | 第27-28页 |
·动态吸附实验 | 第28-29页 |
·选择性分离能力分析 | 第29-30页 |
·再生实验 | 第30页 |
·结果与讨论 | 第30-45页 |
·结构表征分析 | 第30-36页 |
·静态吸附实验 | 第36-39页 |
·动态吸附实验 | 第39-42页 |
·动态吸附模型拟合 | 第42-44页 |
·选择性吸附实验 | 第44-45页 |
·再生性能分析 | 第45页 |
·本章小结 | 第45-47页 |
第3章 双功能单体协同作用的介孔硅表面印迹聚合物的制备及其选择性分离Cr(VI)阴离子的研究 | 第47-64页 |
·实验部分 | 第48-51页 |
·仪器与试剂 | 第48-49页 |
·铬离子印迹聚合物(Cr(VI)-IIP)的制备 | 第49-50页 |
·静态吸附实验 | 第50页 |
·选择性吸附实验 | 第50页 |
·动态吸附与再生实验 | 第50-51页 |
·实际样品分析 | 第51页 |
·结果与讨论 | 第51-62页 |
·结构表征分析 | 第51-55页 |
·静态吸附实验 | 第55-60页 |
·动态吸附与再生实验 | 第60-62页 |
·实际样品分析 | 第62页 |
·本章小结 | 第62-64页 |
第4章 单分散磁性介孔离子印迹聚合物的RAFT可控制备及其对Cu(II)选择性分离研究 | 第64-82页 |
·实验部分 | 第65-68页 |
·仪器与试剂 | 第65-66页 |
·磁性离子印迹聚合物IIP-RAFT的制备过程 | 第66-67页 |
·静态吸附实验 | 第67页 |
·动态吸附实验 | 第67页 |
·竞争吸附实验 | 第67-68页 |
·再生实验 | 第68页 |
·实际样品分析 | 第68页 |
·结果与讨论 | 第68-81页 |
·结构表征分析 | 第68-74页 |
·静态吸附实验 | 第74-79页 |
·动态吸附实验 | 第79-80页 |
·实际样品分析 | 第80-81页 |
·本章小结 | 第81-82页 |
结论 | 第82-84页 |
参考文献 | 第84-91页 |
攻读硕士期间研究成果 | 第91-92页 |
致谢 | 第92-93页 |
附件 | 第93-98页 |