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铜纳米材料的制备及性质研究

摘要第1-5页
Abstract第5-7页
目录第7-10页
第一章 绪论第10-20页
   ·简介第10页
   ·铜纳米材料的制备方法第10-16页
     ·液相化学还原法第10-15页
       ·液相化学还原法制备铜纳米线第11-13页
       ·液相化学还原法制备铜纳米粒子第13-15页
     ·电化学沉积法第15页
     ·化学气相沉积法第15页
     ·反胶束体系法第15页
     ·微波辐射法第15-16页
     ·微乳液法第16页
     ·其他方法第16页
   ·铜纳米材料的应用第16-18页
     ·铜纳米材料在透明导体方面的应用第16-17页
     ·铜纳米材料在润滑油添加剂方面的应用第17页
     ·铜纳米材料在催化剂方面的应用第17-18页
     ·铜纳米材料在抗菌剂方面的应用第18页
   ·铜纳米材料的研究现状第18页
   ·课题提出第18-20页
第二章 氨基酸为表面修饰剂的纳米铜的制备第20-43页
   ·引言第20-21页
   ·实验部分第21-22页
     ·实验材料与试剂第21页
     ·产铜纳米材料的合成第21-22页
   ·铜纳米材料的表征第22-28页
     ·扫描电子显微镜(SEM)表征第23-24页
     ·透射电子显微镜(TEM)以及选区电子衍射(SAED)表征第24页
     ·X射线粉末衍射(XRD)表征第24-25页
     ·X射线光电子能谱(XPS)表征第25-26页
     ·热重分析(TGA)表征第26-28页
   ·纳米铜的形貌与氨基酸表面修饰剂的关系第28-35页
     ·氨基酸的分类第28-29页
     ·第①组氨基酸生成的纳米铜形貌第29-30页
     ·第②组氨基酸生成的纳米铜形貌第30-31页
     ·第③组氨基酸生成的纳米铜形貌第31-32页
     ·第④组氨基酸生成的纳米铜形貌第32-33页
     ·氨基酸的种类与生成的纳米铜形貌的关系第33-35页
   ·影响纳米铜形貌的其他因素第35-42页
     ·还原剂使用当量与纳米铜形貌的关系第35-36页
     ·Na OH浓度与纳米铜形貌的关系第36-37页
     ·甘氨酸的使用当量与纳米铜形貌的关系第37-38页
     ·反应温度与纳米铜形貌的关系第38-39页
     ·铜盐前驱体的使用当量与纳米铜形貌的关系第39-40页
     ·溶剂(DI-H2O)的使用当量与纳米铜形貌的关系第40-42页
   ·本章小结第42-43页
第三章 纳米铜的生长机理以及氨基酸与纳米铜表面配位方式的研究第43-58页
   ·引言第43-45页
   ·铜纳米材料的生长机理研究第45-48页
     ·铜纳米粒子的生长机理研究第45-46页
     ·铜纳米线的生长机理研究第46-48页
       ·铜纳米线的生长方向第46页
       ·铜纳米线的生长过程第46-48页
   ·氨基酸与铜纳米材料表面配位方式的研究第48-56页
     ·第①组氨基酸与纳米铜表面的配位方式第49-50页
     ·第②组氨基酸与纳米铜表面的配位方式第50-52页
     ·第③组氨基酸与纳米铜表面的配位方式第52-53页
     ·第④组氨基酸与纳米铜表面的配位方式第53-56页
       ·赖氨酸与纳米铜表面的配位方式第53-54页
       ·色氨酸与纳米铜表面的配位方式第54-56页
   ·本章小结第56-58页
第四章 铜纳米材料的性质研究第58-66页
   ·引言第58-59页
   ·铜纳米材料的抗氧化性研究第59-62页
     ·EDA@Cu NW的抗氧化性第59-60页
     ·Gly@Cu NW的抗氧化性第60-61页
     ·His@Cu NP的抗氧化性第61-62页
   ·铜纳米材料的分散性研究第62-65页
     ·第①组氨基酸的分散性研究第62-63页
     ·第②组氨基酸的分散性研究第63页
     ·第③组氨基酸的分散性研究第63-64页
     ·第④组氨基酸的分散性研究第64-65页
   ·本章小结第65-66页
第五章 总结与展望第66-67页
参考文献第67-76页
攻读学位期间研究成果第76-77页
致谢第77页

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