摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-7页 |
目录 | 第7-10页 |
第一章 绪论 | 第10-20页 |
·简介 | 第10页 |
·铜纳米材料的制备方法 | 第10-16页 |
·液相化学还原法 | 第10-15页 |
·液相化学还原法制备铜纳米线 | 第11-13页 |
·液相化学还原法制备铜纳米粒子 | 第13-15页 |
·电化学沉积法 | 第15页 |
·化学气相沉积法 | 第15页 |
·反胶束体系法 | 第15页 |
·微波辐射法 | 第15-16页 |
·微乳液法 | 第16页 |
·其他方法 | 第16页 |
·铜纳米材料的应用 | 第16-18页 |
·铜纳米材料在透明导体方面的应用 | 第16-17页 |
·铜纳米材料在润滑油添加剂方面的应用 | 第17页 |
·铜纳米材料在催化剂方面的应用 | 第17-18页 |
·铜纳米材料在抗菌剂方面的应用 | 第18页 |
·铜纳米材料的研究现状 | 第18页 |
·课题提出 | 第18-20页 |
第二章 氨基酸为表面修饰剂的纳米铜的制备 | 第20-43页 |
·引言 | 第20-21页 |
·实验部分 | 第21-22页 |
·实验材料与试剂 | 第21页 |
·产铜纳米材料的合成 | 第21-22页 |
·铜纳米材料的表征 | 第22-28页 |
·扫描电子显微镜(SEM)表征 | 第23-24页 |
·透射电子显微镜(TEM)以及选区电子衍射(SAED)表征 | 第24页 |
·X射线粉末衍射(XRD)表征 | 第24-25页 |
·X射线光电子能谱(XPS)表征 | 第25-26页 |
·热重分析(TGA)表征 | 第26-28页 |
·纳米铜的形貌与氨基酸表面修饰剂的关系 | 第28-35页 |
·氨基酸的分类 | 第28-29页 |
·第①组氨基酸生成的纳米铜形貌 | 第29-30页 |
·第②组氨基酸生成的纳米铜形貌 | 第30-31页 |
·第③组氨基酸生成的纳米铜形貌 | 第31-32页 |
·第④组氨基酸生成的纳米铜形貌 | 第32-33页 |
·氨基酸的种类与生成的纳米铜形貌的关系 | 第33-35页 |
·影响纳米铜形貌的其他因素 | 第35-42页 |
·还原剂使用当量与纳米铜形貌的关系 | 第35-36页 |
·Na OH浓度与纳米铜形貌的关系 | 第36-37页 |
·甘氨酸的使用当量与纳米铜形貌的关系 | 第37-38页 |
·反应温度与纳米铜形貌的关系 | 第38-39页 |
·铜盐前驱体的使用当量与纳米铜形貌的关系 | 第39-40页 |
·溶剂(DI-H2O)的使用当量与纳米铜形貌的关系 | 第40-42页 |
·本章小结 | 第42-43页 |
第三章 纳米铜的生长机理以及氨基酸与纳米铜表面配位方式的研究 | 第43-58页 |
·引言 | 第43-45页 |
·铜纳米材料的生长机理研究 | 第45-48页 |
·铜纳米粒子的生长机理研究 | 第45-46页 |
·铜纳米线的生长机理研究 | 第46-48页 |
·铜纳米线的生长方向 | 第46页 |
·铜纳米线的生长过程 | 第46-48页 |
·氨基酸与铜纳米材料表面配位方式的研究 | 第48-56页 |
·第①组氨基酸与纳米铜表面的配位方式 | 第49-50页 |
·第②组氨基酸与纳米铜表面的配位方式 | 第50-52页 |
·第③组氨基酸与纳米铜表面的配位方式 | 第52-53页 |
·第④组氨基酸与纳米铜表面的配位方式 | 第53-56页 |
·赖氨酸与纳米铜表面的配位方式 | 第53-54页 |
·色氨酸与纳米铜表面的配位方式 | 第54-56页 |
·本章小结 | 第56-58页 |
第四章 铜纳米材料的性质研究 | 第58-66页 |
·引言 | 第58-59页 |
·铜纳米材料的抗氧化性研究 | 第59-62页 |
·EDA@Cu NW的抗氧化性 | 第59-60页 |
·Gly@Cu NW的抗氧化性 | 第60-61页 |
·His@Cu NP的抗氧化性 | 第61-62页 |
·铜纳米材料的分散性研究 | 第62-65页 |
·第①组氨基酸的分散性研究 | 第62-63页 |
·第②组氨基酸的分散性研究 | 第63页 |
·第③组氨基酸的分散性研究 | 第63-64页 |
·第④组氨基酸的分散性研究 | 第64-65页 |
·本章小结 | 第65-66页 |
第五章 总结与展望 | 第66-67页 |
参考文献 | 第67-76页 |
攻读学位期间研究成果 | 第76-77页 |
致谢 | 第77页 |