高能电子成像方法的初步研究

摘要	第1-4页
Abstract	第4-8页
第1章 引言	第8-16页
·高能量密度物理的介绍	第8-9页
·对 HED 的不同成像方法的介绍	第9-16页
·质子成像	第9-12页
·X射线成像	第12页
·中子成像	第12-14页
·电子成像	第14-15页
·小结	第15-16页
第2章 电子与物质的作用	第16-23页
·电子与物质作用的角分布模型	第16-18页
·MCNP模拟的电子束角分布图	第18-20页
·Geant4模拟的电子束角分布图	第20-23页
第3章 成像系统的理论模拟分析	第23-44页
·不含匹配透镜的成像系统模拟	第23-33页
·模拟布局与软件的相关优化	第23页
·传输系统的优化	第23-27页
·成像模拟研究	第27-32页
·在样品中的能损和准直孔的要求	第32-33页
·小结	第33页
·添加匹配透镜的成像系统	第33-44页
·添加匹配透镜后的系统模拟布局	第33-34页
·成像传输系统的优化	第34-36页
·匹配透镜系统的优化	第36-38页
·模拟成像结果分析	第38-43页
·小结	第43-44页
第4章 基于实验室现有布局的模拟结果	第44-47页
·实验室现有布局要求及选定的优化参数	第44-45页
·成像结果	第45-47页
第5章 总结	第47-48页
参考文献	第48-50页
致谢	第50-52页
个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果	第52页