| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-39页 |
| ·绝缘体上的硅(SOI) | 第11-18页 |
| ·SOI的制作 | 第11-13页 |
| ·SOI在主流微电子器件中的使用 | 第13-15页 |
| ·从SOI顶层获得良好平曲性的硅纳米薄膜 | 第15-17页 |
| ·SOI为表面科学研究提供新的平台 | 第17-18页 |
| ·SOI表面/界面氢钝化处理 | 第18-28页 |
| ·表面氢氟酸浸没处理 | 第18-23页 |
| ·表面真空氢钝化处理 | 第23-25页 |
| ·界面氢钝化处理 | 第25-28页 |
| ·SOI纳米薄膜的电学表征：van der Pauw测量面阻方法 | 第28-30页 |
| ·SOI纳米薄膜的表面成分表征：X光电谱表面成份测定法 | 第30-31页 |
| ·本文安排 | 第31-32页 |
| 参考文献 | 第32-39页 |
| 第二章 SOI纳米薄膜的HF酸表面处理及电学表征 | 第39-55页 |
| ·引言 | 第39-40页 |
| ·实验 | 第40页 |
| ·结果与讨论 | 第40-53页 |
| ·有无去离子水漂洗对HF酸处理过的SOI纳米薄膜电导率影响 | 第41-45页 |
| ·去离子水漂洗时间对HF酸表面处理后的SOI纳米薄膜电导率影响 | 第45-48页 |
| ·不同浓度HF酸表面处理对SOI纳米薄膜的电导率影响 | 第48-53页 |
| ·本章小结 | 第53页 |
| 参考文献 | 第53-55页 |
| 第三章 比较两种表面氢钝化处理对SOI纳米薄膜电导率的影响 | 第55-67页 |
| ·引言 | 第55-56页 |
| ·研究背景 | 第56-57页 |
| ·实验 | 第57-58页 |
| ·结果与讨论 | 第58-64页 |
| ·本章小结 | 第64页 |
| 参考文献 | 第64-67页 |
| 第四章 Forming gas界面氢钝化处理对SOI纳米薄膜电导率的影响 | 第67-77页 |
| ·引言 | 第67-68页 |
| ·实验 | 第68页 |
| ·实验结果与讨论 | 第68-73页 |
| ·本章小结 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-77页 |
| 第五章 总结与展望 | 第77-81页 |
| 致谢 | 第81-83页 |
| Publication | 第83-84页 |
