| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-54页 |
| ·引言 | 第14-16页 |
| ·模型催化剂研究进展 | 第16页 |
| ·常见小分子在金属单晶表面的模型催化研究 | 第16-21页 |
| ·CeO_2模型催化剂研究进展 | 第21-24页 |
| ·CeO_2模型催化剂的研究背景 | 第21页 |
| ·CeO_2的基本性质 | 第21-22页 |
| ·CeO_2粉末催化剂的研究进展 | 第22-24页 |
| ·CeO_2模型催化剂的制备 | 第24-26页 |
| ·CeO_2模型催化剂表面反应的研究 | 第26-33页 |
| ·完全覆盖CeO_2薄膜的研究 | 第27-29页 |
| ·负载型M/CeO_2模型催化剂的表面研究 | 第29-32页 |
| ·倒载型CeO_2/M模型催化剂的表面研究 | 第32-33页 |
| ·本论文的选题方向及研究内容 | 第33-36页 |
| 参考文献 | 第36-54页 |
| 第二章 实验仪器与技术 | 第54-66页 |
| ·仪器装置 | 第54-55页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS) | 第55-59页 |
| ·基本原理 | 第55页 |
| ·XPS谱图的分析 | 第55-57页 |
| ·XPS谱仪的结构 | 第57-59页 |
| ·程序升温脱附谱(TPD) | 第59-60页 |
| ·气体的吸附 | 第59页 |
| ·热脱附 | 第59-60页 |
| ·低能电子衍射(LEED) | 第60-62页 |
| ·LEED原理 | 第61-62页 |
| ·LEED装置 | 第62页 |
| ·实验描述 | 第62-64页 |
| ·试验样品处理 | 第62-63页 |
| ·实验气体以及蒸镀材料 | 第63页 |
| ·实验数据采集 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-66页 |
| 第三章 小分子在Cu(111)与 CuO_x/Cu(111)表面的反应 | 第66-100页 |
| ·NO在Cu(111)表面吸附和分解的XPS和TPD研究 | 第66-77页 |
| ·本节引言 | 第66页 |
| ·NO在干净Cu(111)上的吸附 | 第66-71页 |
| ·NO在有氧覆盖的Cu(111)表面的吸附 | 第71-76页 |
| ·本节结论 | 第76-77页 |
| ·原子氘在CuO_x/Cu(111)表面的吸附与反应 | 第77-88页 |
| ·本节引言 | 第77-78页 |
| ·CuO_x/Cu(111)表面的制备和表征 | 第78-81页 |
| ·CuO_x/Cu(111)表面的原子氘吸附研究 | 第81-87页 |
| ·本节结论 | 第87-88页 |
| ·本章小结 | 第88-90页 |
| 参考文献 | 第90-100页 |
| 第四章 小分子在CeO_2薄膜表面的反应 | 第100-136页 |
| ·10MLCeO_2(111)表面羟基和水的反应性能 | 第100-113页 |
| ·本节引言 | 第100页 |
| ·化学计量比的CeO_2表面重水和原子氘吸附研究 | 第100-107页 |
| ·含有氧缺陷的CeO_(2-x)表面原子氘和重水的吸附研究 | 第107-112页 |
| ·本节结论 | 第112-113页 |
| ·O_2在CeO_2薄膜表面的吸附行为 | 第113-126页 |
| ·本节引言 | 第113-114页 |
| ·CeO_(2-x)(111)表面O_2吸附研究 | 第114-119页 |
| ·不规整CeO_(2-x)表面的O_2吸附研究 | 第119-126页 |
| ·本节结论 | 第126页 |
| ·本章小结 | 第126-128页 |
| 参考文献 | 第128-136页 |
| 第五章 小分子在CeO_2倒载模型催化剂表面的反应 | 第136-160页 |
| ·本章引言 | 第136-137页 |
| ·数据与结论 | 第137-153页 |
| ·0.5ML CeO_2/CuO_x/Cu(111)的制备及研究 | 第137-141页 |
| ·0.5ML CeO_(2-x)/Cu(111)的制备及研究 | 第141-148页 |
| ·CO+OD界面反应的研究 | 第148-153页 |
| ·本章小结 | 第153-155页 |
| 参考文献 | 第155-160页 |
| 第六章 总结 | 第160-164页 |
| 致谢 | 第164-166页 |
| 在读期间发表的学术论文以及其他研究成果 | 第166-167页 |
