| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-23页 |
| ·引言 | 第11-13页 |
| ·表面分析技术 | 第13页 |
| ·金属/Al_2O_3薄膜表界面性质以及氧气吸附与反应研究现状 | 第13-18页 |
| ·氧气在金属/氧化物表面吸附的研究意义 | 第13-14页 |
| ·氧物种分类 | 第14-15页 |
| ·氧气在金属/Al_2O_3模型催化剂表界面吸附和反应研究现状 | 第15-18页 |
| ·稀土金属/氧化铝模型催化体系及该体系分子吸附研究现状 | 第18-21页 |
| ·论文选题思路和主要研究内容 | 第21-23页 |
| 第2章 实验技术与方法 | 第23-35页 |
| ·光电子能谱学(Photoelectron Spectroscopy，PES) | 第23-30页 |
| ·基本原理 | 第23-26页 |
| ·光电子能谱分类 | 第26-29页 |
| ·仪器结构及工作原理 | 第29-30页 |
| ·低能电子衍射(Low-energy electron diffraction,LEED) | 第30-31页 |
| ·实验装置 | 第31-34页 |
| ·合肥国家同步辐射实验室光电子能谱实验线站介绍 | 第31-33页 |
| ·中国科学院高能物理研究所光电子能谱实验线站介绍 | 第33-34页 |
| ·Al_2O_3/Ni_3Al(111)担载的金属颗粒模型催化剂制备方法 | 第34-35页 |
| 第3章 O_2与Sm在Al_2O_3/Ni_3Al(111)上的吸附与热稳定性 | 第35-61页 |
| ·Sm/Al_2O_3界面的O_2吸附与热稳定性研究 | 第35-51页 |
| ·10ML Sm/Al_2O_3表面O_2吸附及热稳定性研究 | 第35-39页 |
| ·1.5ML Sm/Al_2O_3界面O_2吸附及热稳定性研究 | 第39-47页 |
| ·0.3 ML Sm/Al_2O_3界面O_2吸附及热稳定性研究 | 第47-51页 |
| ·O_2/Sm在Al_2O_3/Ni_3Al(111)表而共沉积与热稳定性研究 | 第51-59页 |
| ·室温下Sm在O_2气氛中沉积,超高真空中退火 | 第51-57页 |
| ·O_2氛围下,Sm在室温下沉积并退火至800 K | 第57-59页 |
| ·本章小结 | 第59-61页 |
| 第4章 Ce/Al_2O_3界面反应的同步辐射光电子能潜研究 | 第61-71页 |
| ·价带谱与功函数的变化 | 第61-63页 |
| ·芯能级谱在Ce的沉积与退火过程中的改变 | 第63-69页 |
| ·本章小结 | 第69-71页 |
| 第5章 总结与展望 | 第71-73页 |
| ·全文总结 | 第71页 |
| ·展望 | 第71-73页 |
| 参考文献 | 第73-85页 |
| 致谢 | 第85-87页 |
| 在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第87页 |
