纳米结构表面场增强技术的研究
| 致谢 | 第1-6页 |
| 中文摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 1 引言 | 第10-17页 |
| ·表面等离子体激元技术的发展与现状 | 第11-12页 |
| ·表面增强拉曼散射技术的发展与现状 | 第12-14页 |
| ·纳米加工技术 | 第14-16页 |
| ·电子束光刻 | 第14-15页 |
| ·纳米压印 | 第15-16页 |
| ·论文研究内容及章节安排 | 第16-17页 |
| 2 基本理论 | 第17-28页 |
| ·表面等离子体激元 | 第17-23页 |
| ·表面等离子体激元的基本概念 | 第17-18页 |
| ·表面等离子体激元的色散特性 | 第18-21页 |
| ·表面等离子体激元的特征长度 | 第21-22页 |
| ·局域表面等离子体 | 第22-23页 |
| ·表面增强拉曼散射 | 第23-25页 |
| ·金属的Drude模型 | 第25-27页 |
| ·小结 | 第27-28页 |
| 3 数值计算方法 | 第28-54页 |
| ·时域有限差分方法的基本原理 | 第28-38页 |
| ·二维FDTD算法 | 第29-32页 |
| ·三维FDTD算法 | 第32-38页 |
| ·数值稳定性与数值色散 | 第38-44页 |
| ·标量波动方程差分算法的稳定性分析 | 第38-41页 |
| ·二维FDTD算法的数值稳定性 | 第41-42页 |
| ·三维FDTD算法的数值稳定性 | 第42-43页 |
| ·数值色散 | 第43-44页 |
| ·吸收边界条件 | 第44-51页 |
| ·Mur吸收边界条件 | 第45-47页 |
| ·完全匹配层 | 第47-51页 |
| ·常用的激励源 | 第51-53页 |
| ·小结 | 第53-54页 |
| 4 结构设计和仿真 | 第54-65页 |
| ·仿真工具 | 第54-58页 |
| ·金属纳米结构的设计 | 第58-60页 |
| ·纳米球结构 | 第58-59页 |
| ·纳米盘结构 | 第59页 |
| ·块状结构 | 第59-60页 |
| ·金属纳米结构的仿真结果和优化 | 第60-64页 |
| ·纳米球结构 | 第60-61页 |
| ·纳米盘结构 | 第61页 |
| ·块状结构 | 第61-64页 |
| ·小结 | 第64-65页 |
| 5 总结与展望 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-69页 |
| 作者简历 | 第69-71页 |
| 学位论文数据集 | 第71页 |
