| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-21页 |
| ·透明导电薄膜概述 | 第11-12页 |
| ·ZnO 薄膜概述 | 第12-15页 |
| ·ZnO 的晶体结构 | 第12-13页 |
| ·ZnO 的基本性质 | 第13-14页 |
| ·ZAO 薄膜的结构及特性 | 第14页 |
| ·ZAO 薄膜的发展趋势及其应用 | 第14-15页 |
| ·ZAO 薄膜的制备技术 | 第15-20页 |
| ·真空蒸发沉积法 | 第15-16页 |
| ·磁控溅射法 | 第16-17页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第17-18页 |
| ·分子束外延 | 第18页 |
| ·化学气相沉积法 | 第18-19页 |
| ·水热法 | 第19页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第19-20页 |
| ·本论文的主要研究内容 | 第20-21页 |
| 第2章 制备 ZAO 薄膜实验材料及表征手段 | 第21-28页 |
| ·实验仪器设备及原料 | 第21-22页 |
| ·实验仪器设备 | 第21页 |
| ·实验原料 | 第21-22页 |
| ·实验方法 | 第22-24页 |
| ·玻璃基底的清洗过程 | 第22页 |
| ·薄膜的制备过程 | 第22-24页 |
| ·测试方法 | 第24-28页 |
| ·X 射线衍射仪（XRD） | 第24-25页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第25-26页 |
| ·霍尔效应仪 | 第26页 |
| ·紫外-可见-近红外分光光度计 | 第26-28页 |
| 第3章 Al~(3+)掺杂量对 ZAO 薄膜光电性能和微结构的影响 | 第28-33页 |
| ·Al~(3+)掺杂量对 ZAO 薄膜光电性能的影响 | 第28-30页 |
| ·Al~(3+)掺杂量对 ZAO 薄膜透射率的影响 | 第28-29页 |
| ·Al~(3+)掺杂量对 ZAO 薄膜电阻率的影响 | 第29-30页 |
| ·Al 3+掺杂量对 ZAO 薄膜微结构的影响 | 第30-32页 |
| ·Al~(3+)掺杂量对 ZAO 薄膜晶体结构的影响 | 第30-31页 |
| ·Al~(3+)掺杂量对 ZAO 薄膜表面形貌的影响 | 第31-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 第4章 退火时间对 ZAO 薄膜光电性能和微结构的影响 | 第33-38页 |
| ·退火时间对 ZAO 薄膜光电性能的影响 | 第33-35页 |
| ·退火时间对 ZAO 薄膜透射率的影响 | 第33-34页 |
| ·退火时间对 ZAO 薄膜电阻率的影响 | 第34-35页 |
| ·退火时间对 ZAO 薄膜微结构的影响 | 第35-37页 |
| ·退火时间对 ZAO 薄膜晶体结构的影响 | 第35-36页 |
| ·退火时间对 ZAO 薄膜表面形貌的影响 | 第36-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 第5章 弱酸氯化铵溶液对 ZAO 薄膜光电性能和微结构的影响 | 第38-43页 |
| ·弱酸氯化铵溶液对 ZAO 薄膜光电性能的影响 | 第38-40页 |
| ·弱酸氯化铵溶液对腐蚀后 ZAO 薄膜透射率的影响 | 第38-39页 |
| ·弱酸氯化铵溶液对腐蚀后 ZAO 薄膜电阻率的影响 | 第39-40页 |
| ·弱酸氯化铵溶液对 ZAO 薄膜微结构的影响 | 第40-42页 |
| ·弱酸氯化铵溶液对腐蚀后 ZAO 薄膜晶体结构的影响 | 第40页 |
| ·弱酸氯化铵溶液对腐蚀后 ZAO 薄膜表面形貌的影响 | 第40-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 第6章 总结和展望 | 第43-46页 |
| ·总结 | 第43-45页 |
| ·展望 | 第45-46页 |
| 致谢 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-50页 |
