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多频等离子体放电的实验研究

中文摘要第1-6页
Abstract第6-12页
第一章 引言第12-30页
   ·引言第12-13页
   ·等离子体和真空第13-14页
     ·等离子体介绍第13页
     ·真空及其分类第13-14页
   ·真空的获得第14-15页
     ·机械泵第14页
     ·涡轮分子泵第14-15页
     ·升华泵和低温冷凝泵第15页
   ·真空的测量第15-16页
     ·热偶真空计和热阻真空计第15页
     ·电离真空计第15-16页
     ·薄膜真空计第16页
   ·几种常见放电方式第16-22页
     ·感性耦合等离子体源第16-18页
     ·容性耦合等离子体源第18-20页
     ·螺旋波等离子体源第20-21页
     ·电子回旋共振等离子体源第21-22页
   ·ICP 源的形式第22-25页
     ·两种常见形式第22-23页
     ·浸入式线圈第23-25页
   ·本论文工作的意义及主要内容第25-26页
 参考文献第26-30页
第二章 实验装置和诊断设备第30-43页
   ·实验装置第30-32页
   ·郎缪尔探针第32-38页
     ·郎缪尔探针原理第33-35页
     ·郎缪尔探针结构及配置第35-36页
     ·数据处理第36-38页
   ·示波器系统第38-40页
     ·示波器第38页
     ·高压探针第38-39页
     ·电流感应器第39-40页
   ·光纤光谱仪第40-43页
第三章 示波器对等离子体的研究第43-50页
   ·射频电源的匹配第43-46页
   ·气压对线圈电流波形的影响第46-47页
   ·气压对线圈电压、线圈电流的影响第47-48页
   ·本章小结第48-49页
 参考文献第49-50页
第四章 气压对放电特性的影响第50-59页
   ·气压对等离子体特征参量的影响第50-52页
   ·气压对 EEPF 的影响第52-55页
   ·气压对光强的影响第55-56页
   ·本章小结第56-58页
 参考文献第58-59页
第五章 功率对等离子体的影响第59-69页
   ·电子密度随径向位置的变化情况第59-60页
   ·ICP 功率对 EEPF 的影响第60-62页
   ·ICP 功率对等离子体电势和电子密度的影响第62-63页
   ·ICP 功率和低频功率对电子能量的影响第63-64页
   ·功率对刻蚀效果的影响第64-67页
     ·低频功率对刻蚀效果的影响第65页
     ·高频功率对刻蚀效果的影响第65-66页
     ·增加 ICP 功率前后对刻蚀效果的影响第66-67页
   ·本章小结第67-68页
 参考文献第68-69页
第六章 结论第69-71页
攻读硕士学位期间公开发表的论文第71-72页
致谢第72-73页

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