多频等离子体放电的实验研究
中文摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-12页 |
第一章 引言 | 第12-30页 |
·引言 | 第12-13页 |
·等离子体和真空 | 第13-14页 |
·等离子体介绍 | 第13页 |
·真空及其分类 | 第13-14页 |
·真空的获得 | 第14-15页 |
·机械泵 | 第14页 |
·涡轮分子泵 | 第14-15页 |
·升华泵和低温冷凝泵 | 第15页 |
·真空的测量 | 第15-16页 |
·热偶真空计和热阻真空计 | 第15页 |
·电离真空计 | 第15-16页 |
·薄膜真空计 | 第16页 |
·几种常见放电方式 | 第16-22页 |
·感性耦合等离子体源 | 第16-18页 |
·容性耦合等离子体源 | 第18-20页 |
·螺旋波等离子体源 | 第20-21页 |
·电子回旋共振等离子体源 | 第21-22页 |
·ICP 源的形式 | 第22-25页 |
·两种常见形式 | 第22-23页 |
·浸入式线圈 | 第23-25页 |
·本论文工作的意义及主要内容 | 第25-26页 |
参考文献 | 第26-30页 |
第二章 实验装置和诊断设备 | 第30-43页 |
·实验装置 | 第30-32页 |
·郎缪尔探针 | 第32-38页 |
·郎缪尔探针原理 | 第33-35页 |
·郎缪尔探针结构及配置 | 第35-36页 |
·数据处理 | 第36-38页 |
·示波器系统 | 第38-40页 |
·示波器 | 第38页 |
·高压探针 | 第38-39页 |
·电流感应器 | 第39-40页 |
·光纤光谱仪 | 第40-43页 |
第三章 示波器对等离子体的研究 | 第43-50页 |
·射频电源的匹配 | 第43-46页 |
·气压对线圈电流波形的影响 | 第46-47页 |
·气压对线圈电压、线圈电流的影响 | 第47-48页 |
·本章小结 | 第48-49页 |
参考文献 | 第49-50页 |
第四章 气压对放电特性的影响 | 第50-59页 |
·气压对等离子体特征参量的影响 | 第50-52页 |
·气压对 EEPF 的影响 | 第52-55页 |
·气压对光强的影响 | 第55-56页 |
·本章小结 | 第56-58页 |
参考文献 | 第58-59页 |
第五章 功率对等离子体的影响 | 第59-69页 |
·电子密度随径向位置的变化情况 | 第59-60页 |
·ICP 功率对 EEPF 的影响 | 第60-62页 |
·ICP 功率对等离子体电势和电子密度的影响 | 第62-63页 |
·ICP 功率和低频功率对电子能量的影响 | 第63-64页 |
·功率对刻蚀效果的影响 | 第64-67页 |
·低频功率对刻蚀效果的影响 | 第65页 |
·高频功率对刻蚀效果的影响 | 第65-66页 |
·增加 ICP 功率前后对刻蚀效果的影响 | 第66-67页 |
·本章小结 | 第67-68页 |
参考文献 | 第68-69页 |
第六章 结论 | 第69-71页 |
攻读硕士学位期间公开发表的论文 | 第71-72页 |
致谢 | 第72-73页 |