| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-18页 |
| ·课题的研究背景与意义 | 第10-12页 |
| ·霍尔推进器的国内外研究现状 | 第12-14页 |
| ·霍尔推进器壁面鞘层的国内外研究现状 | 第14-15页 |
| ·霍尔推进器鞘层的数值模拟方法 | 第15-16页 |
| ·论文研究内容及章节安排 | 第16-18页 |
| 第2章 霍尔推进器壁面二维鞘层模型及PIC模拟方法 | 第18-33页 |
| ·引言 | 第18页 |
| ·霍尔推进器壁面二维鞘层模型 | 第18-23页 |
| ·物理模型 | 第18-21页 |
| ·边界条件 | 第21-23页 |
| ·PIC数值计算方法 | 第23-30页 |
| ·粒子的初始位置及速度 | 第23-24页 |
| ·粒子云分室法 | 第24-27页 |
| ·泊松方程的数值计算 | 第27-28页 |
| ·运动方程的数值计算 | 第28-30页 |
| ·程序流程 | 第30-31页 |
| ·本章小结 | 第31-33页 |
| 第3章 霍尔推进器壁面磁鞘特性的研究 | 第33-40页 |
| ·引言 | 第33-34页 |
| ·磁场方向对鞘层特性的影响 | 第34-37页 |
| ·磁场大小对鞘层特性的影响 | 第37-38页 |
| ·粒子权重与鞘层稳定性 | 第38-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 第4章 不同电子温度下等离子体鞘层特性的研究 | 第40-45页 |
| ·引言 | 第40页 |
| ·电子温度对鞘层特性的影响 | 第40-43页 |
| ·不同电子温度的二次电子发射特性 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第5章 离子入射速度及推进工质对等离子体鞘层特性的影响 | 第45-52页 |
| ·引言 | 第45-46页 |
| ·不同离子入射速度的鞘层特性 | 第46-48页 |
| ·不同推进工质的鞘层特性 | 第48-49页 |
| ·模拟区域对鞘层稳定性的影响 | 第49-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 结论与展望 | 第52-54页 |
| 参考文献 | 第54-63页 |
| 攻读学位期间公开发表论文 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64页 |