薄膜电感器的设计与制备
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-15页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·国内外研究现状 | 第10-13页 |
| ·论文各部分的主要内容 | 第13-15页 |
| 第二章 薄膜电感的设计 | 第15-34页 |
| ·薄膜电感器的物理基础 | 第15-18页 |
| ·电动感应电势 | 第15-16页 |
| ·自感和互感 | 第16-17页 |
| ·薄膜电感器 | 第17-18页 |
| ·薄膜电感的主要参数 | 第18-24页 |
| ·圆形螺旋电感L计算 | 第18-21页 |
| ·螺旋电感品质因素Q的计算 | 第21-24页 |
| ·平面薄膜电感的损耗机制 | 第24-28页 |
| ·趋肤效应 | 第24-27页 |
| ·邻近效应 | 第27-28页 |
| ·衬底的损耗 | 第28页 |
| ·电感尺寸各项参数对电感性能的影响 | 第28-33页 |
| ·电感值L随参数的变化 | 第30-31页 |
| ·各项参数对品质因素Q的影响 | 第31-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 第三章 薄膜电感磁膜材料的制备及测试 | 第34-47页 |
| ·薄膜的制备 | 第34-35页 |
| ·磁控溅射薄膜的原理 | 第35-36页 |
| ·磁控溅射基本原理 | 第35页 |
| ·溅射和薄膜的形成 | 第35-36页 |
| ·软磁薄膜的基本特性 | 第36-38页 |
| ·薄膜的自发磁化 | 第36-37页 |
| ·薄膜材料的各向异性 | 第37页 |
| ·软磁薄膜的损耗 | 第37-38页 |
| ·FECo-SIO_2高频软磁薄膜的研究 | 第38-40页 |
| ·靶材的准备 | 第38页 |
| ·薄膜的制备操作 | 第38-40页 |
| ·薄膜的性能分析 | 第40-45页 |
| ·薄膜厚度的测量 | 第40-41页 |
| ·X射线衍射分析 | 第41-42页 |
| ·薄膜磁性能的测量 | 第42-45页 |
| ·薄膜的电阻率分析 | 第45页 |
| ·本章小结 | 第45-47页 |
| 第四章 电感器的制备及测试结果分析 | 第47-63页 |
| ·薄膜电感的版图设计 | 第47-49页 |
| ·薄膜制备的关键工艺 | 第49-55页 |
| ·光刻工艺 | 第49-52页 |
| ·电镀Cu工艺 | 第52-54页 |
| ·绝缘层的刻蚀工艺 | 第54-55页 |
| ·电感的制备流程 | 第55-57页 |
| ·电感器的测量 | 第57-60页 |
| ·电感的性能分析 | 第60-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 第五章 结论 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-68页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第68页 |
