雕塑薄膜的镀制及其特性研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 1 绪论 | 第7-13页 |
| ·引言 | 第7页 |
| ·雕塑薄膜的发展 | 第7-11页 |
| ·雕塑薄膜的制备方法 | 第7-9页 |
| ·雕塑薄膜的理论计算 | 第9-11页 |
| ·国内外现状 | 第11-12页 |
| ·本文的研究内容 | 第12-13页 |
| 2 雕塑薄膜生长理论 | 第13-21页 |
| ·一般薄膜生长过程 | 第13-17页 |
| ·蒸汽分子的吸附过程 | 第13-14页 |
| ·成核过程 | 第14页 |
| ·薄膜生长过程 | 第14-17页 |
| ·雕塑薄膜生长 | 第17-20页 |
| ·阴影效应和再发射效应 | 第17-18页 |
| ·蒙特卡洛模型 | 第18-19页 |
| ·不同基片旋转下的雕塑薄膜 | 第19-20页 |
| ·本章小结 | 第20-21页 |
| 3 雕塑薄膜的等效折射率理论 | 第21-26页 |
| ·各向同性薄膜的等效折射率理论 | 第21-22页 |
| ·雕塑薄膜等效折射率模型 | 第22-25页 |
| ·本章小结 | 第25-26页 |
| 4 雕塑薄膜的制备 | 第26-35页 |
| ·雕塑薄膜的制备方法 | 第26-27页 |
| ·在空白的K9基片上沉积 | 第26-27页 |
| ·在预成型的基片上沉积雕塑薄膜 | 第27页 |
| ·实验仪器的介绍 | 第27-29页 |
| ·工艺参数对雕塑薄膜的影响 | 第29-33页 |
| ·实验方案的介绍 | 第29-30页 |
| ·结果的分析 | 第30-33页 |
| ·小结 | 第33-35页 |
| 5 雕塑薄膜的测量与结果分析 | 第35-49页 |
| ·雕塑薄膜的椭偏分析 | 第35-46页 |
| ·椭偏法测量原理 | 第35-36页 |
| ·椭偏仪VASE测量分析薄膜 | 第36-46页 |
| ·雕塑薄膜的牢固性测试 | 第46-47页 |
| ·雕塑薄膜的应力 | 第47页 |
| ·薄膜的机械强度 | 第47页 |
| ·总结 | 第47-49页 |
| 致谢 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-52页 |