摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-12页 |
1 本课题的研究背景及意义 | 第12-25页 |
·铬的污染来源及其危害分析 | 第12-15页 |
·铬污染主要来源 | 第12-13页 |
·铬的存在形式及其不同形态 | 第13页 |
·铬对环境的危害 | 第13-15页 |
·六价铬的处理现状 | 第15-19页 |
·化学法 | 第15页 |
·物理化学法 | 第15-19页 |
·生物吸附处理法 | 第19页 |
·1-乙烯基咪唑与重金属离子去除 | 第19-20页 |
·分子印迹技术 | 第20-23页 |
·分子印迹技术的概述 | 第20-21页 |
·传统分子印迹聚合物的制备及缺点 | 第21-22页 |
·新型分子表面印迹技术与重金属离子去除 | 第22-23页 |
·本课题的研究目标 | 第23-25页 |
2 功能接枝微粒 PVI/SIO_2的制备 | 第25-35页 |
·试验部分 | 第25-28页 |
·原料与仪器 | 第25页 |
·接枝微粒 PVI/SiO_2的制备及表征 | 第25-28页 |
·结果与讨论 | 第28-33页 |
·接枝微粒 PVI/SiO_2的制备过程 | 第28页 |
·接枝微粒 PVI/SiO_2的表征 | 第28-30页 |
·主要因素对 1-乙烯基咪唑接枝聚合的影响及接枝聚合机理探索 | 第30-33页 |
·本章小结 | 第33-35页 |
3 接枝微粒 PVI/SIO_2对铬酸根离子的吸附性能研究 | 第35-46页 |
·实验部分 | 第35-39页 |
·原料与仪器 | 第35页 |
·接枝微球 PVI/SiO_2的 Zeta 电位测定 | 第35-36页 |
·铬酸根标准曲线的绘制 | 第36-37页 |
·吸附动力学实验 | 第37页 |
·吸附等温线的测定 | 第37-38页 |
·考察主要因素对接枝微粒吸附性能的影响 | 第38-39页 |
·结果与讨论 | 第39-45页 |
·功能接枝微粒 PVI/SiO_2的 Zeta 电位 | 第39-40页 |
·功能微粒 PVI-SiO_2对 CrO42-的吸附动力学曲线 | 第40页 |
·接枝微粒 PVI/SiO_2对 CrO42-的等温吸附曲线及吸附机理 | 第40-41页 |
·主要因素对接枝微粒 PVI/SiO_2吸附性能的影响 | 第41-45页 |
·本章小结 | 第45-46页 |
4 铬酸根离子表面印迹材料的制备及其识别性能研究 | 第46-62页 |
·实验部分 | 第46-51页 |
·原料与仪器 | 第46页 |
·CrO42-离子印迹材料 IIP-PVI/SiO_2的制备与表征 | 第46-47页 |
·等温结合性能的测定 | 第47-49页 |
·印迹材料 IIP-PVI/SiO_2结合选择性能的测定 | 第49-50页 |
·洗脱性能的考察 | 第50页 |
·考察印迹条件对 CrO42-印迹材料 IIP-PVI/SiO_2结合选择性能的影响 | 第50-51页 |
·结果与讨论 | 第51-60页 |
·CrO_4~(2-)离子表面印迹材料的制备过程与产物表征 | 第51-52页 |
·印迹材料 IIP-PVI/SiO_2结合等温线与动态结合曲线 | 第52-55页 |
·IIP-PVI/SiO_2对模板 CrO42-离子的选择性系数 | 第55-56页 |
·IIP-PVI/SiO_2的脱附性能考察 | 第56-57页 |
·各种印迹条件对 IIP-PVI/SiO_2结合性能的影响 | 第57-60页 |
·本章小结 | 第60-62页 |
结论 | 第62-64页 |
参考文献 | 第64-71页 |
攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第71-72页 |
致谢 | 第72页 |