| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-20页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·电致化学发光概述 | 第10-13页 |
| ·电致化学发光简介 | 第10-11页 |
| ·电致化学发光的基本原理 | 第11-12页 |
| ·电致化学发光定量基础 | 第12页 |
| ·电致化学发光分析实验装置 | 第12页 |
| ·电致化学发光方法的优点 | 第12-13页 |
| ·贵金属配合物电致化学发光的研究概述 | 第13-15页 |
| ·贵金属配合物电致化学发光的研究现状 | 第13页 |
| ·金属配合物电致化学发光机理 | 第13-15页 |
| ·固相电致化学发光的研究 | 第15-17页 |
| ·Langmuir-Blodgett 膜法 | 第15页 |
| ·自组装膜法 | 第15-16页 |
| ·离子交换聚合膜法 | 第16页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第16页 |
| ·与其他技术相结合 | 第16-17页 |
| ·分子印迹技术简介 | 第17-18页 |
| ·分子印迹技术的原理和方法 | 第17页 |
| ·分子印迹物质的制备 | 第17-18页 |
| ·分子印迹聚合物的性能测试 | 第18页 |
| ·本课题的主要研究内容 | 第18-20页 |
| 第二章 配合物(pq)2Ir(N-phMA)的合成及其性质研究 | 第20-33页 |
| ·引言 | 第20页 |
| ·实验部分 | 第20-24页 |
| ·试剂与仪器 | 第20-21页 |
| ·液相ECL 测试方法 | 第21页 |
| ·新型铱配合物(pq)2Ir(N-phMA)的合成 | 第21-23页 |
| ·(pq)2Ir(N-phMA)固定化电极的制备 | 第23-24页 |
| ·结果与讨论 | 第24-31页 |
| ·配合物的表征 | 第24-26页 |
| ·铱配合物(pq)2Ir(N-phMA)的电化学性质 | 第26-28页 |
| ·铱配合物(pq)2Ir(N-phMA)的紫外-可见吸收光谱和荧光光谱性质 | 第28-30页 |
| ·N,N′-二甲基甲酰胺溶液中(pq)2Ir(N-phMA)的电致化学发光性质 | 第30-31页 |
| ·本章小结 | 第31-33页 |
| 第三章 配合物(pq)2Ir(N-phMA)的固定化研究 | 第33-47页 |
| ·引言 | 第33页 |
| ·实验部分 | 第33-34页 |
| ·试剂与仪器 | 第33页 |
| ·固定相电致化学发光测试方法 | 第33-34页 |
| ·共聚法固定化(pq)2Ir(N-phMA) | 第34页 |
| ·电聚合法固定化(pq)2Ir(N-phMA) | 第34页 |
| ·聚乙烯醇、碳纳米管联用法固定化(pq)2Ir(N-phMA) | 第34页 |
| ·结果与讨论 | 第34-45页 |
| ·(pq)2Ir(N-phMA)的共聚物的电致化学发光性质 | 第34-38页 |
| ·(pq)2Ir(N-phMA)电聚合电极 | 第38-42页 |
| ·PVA | 第42-45页 |
| ·本章小结 | 第45-47页 |
| 第四章 溶胶-凝胶分子印迹的研究 | 第47-57页 |
| ·引言 | 第47-48页 |
| ·实验部分 | 第48-49页 |
| ·试剂与仪器 | 第48页 |
| ·修饰电极的制备 | 第48-49页 |
| ·测试方法 | 第49页 |
| ·结果与讨论 | 第49-56页 |
| ·三聚氰胺的电化学氧化 | 第49-50页 |
| ·三聚氰胺电化学氧化机理研究 | 第50-51页 |
| ·三聚氰胺氧化控制过程研究 | 第51-52页 |
| ·酸度对氧化峰高度的影响 | 第52页 |
| ·溶胶-凝胶pH 值的影响 | 第52-53页 |
| ·模板分子的去除 | 第53-54页 |
| ·线性回归方程的测定 | 第54-55页 |
| ·干扰试验 | 第55页 |
| ·样品分析 | 第55-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 结论与展望 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-66页 |
| 附录：作者在攻读硕士学位期间发表的论文 | 第66页 |
