精细雾化抛光系统设计及雾化参数的研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-16页 |
| ·引言 | 第8-9页 |
| ·化学机械抛光简介 | 第9页 |
| ·化学机械抛光国内外研究现状 | 第9-12页 |
| ·化学机械抛光存在问题 | 第12页 |
| ·本课题主要研究工作 | 第12-16页 |
| 第二章 试验设备与试剂 | 第16-22页 |
| ·实验条件 | 第16页 |
| ·超声精细雾化CMP 实验设备与检测仪器 | 第16-21页 |
| ·抛光机 | 第16-17页 |
| ·去离子水系统 | 第17页 |
| ·超声波雾化器 | 第17-18页 |
| ·250 型自动控温加热平台 | 第18页 |
| ·电子天平 | 第18页 |
| ·CSPM5000 扫描探针显微镜系统 | 第18-21页 |
| ·试验试剂 | 第21-22页 |
| 第三章 精细雾化抛光系统试验装置设计 | 第22-32页 |
| ·超声精细雾化CMP 方法原理 | 第22-23页 |
| ·超声精细雾化CMP 系统设计 | 第23-30页 |
| ·超声精细雾化CMP 系统设计方案 | 第23页 |
| ·工艺流程和设备配置 | 第23页 |
| ·抛光系统总图 | 第23-24页 |
| ·抛光机改造设计 | 第24-26页 |
| ·抛光雾液导入方案 | 第26-27页 |
| ·去离子水流量和压力的调整 | 第27-28页 |
| ·雾化参数的确定 | 第28-29页 |
| ·回收装置 | 第29-30页 |
| ·本章小结 | 第30-32页 |
| 第四章 抛光试验方法及试验 | 第32-40页 |
| ·抛光试验方法 | 第32-33页 |
| ·抛光正交试验方法 | 第32-33页 |
| ·单因素试验方案及参数选取 | 第33页 |
| ·试验 | 第33-38页 |
| ·正交试验 | 第33-34页 |
| ·抛光机转速 | 第34-35页 |
| ·喷嘴高度 | 第35页 |
| ·压力 | 第35-36页 |
| ·雾化半径 | 第36-37页 |
| ·喷嘴角度 | 第37-38页 |
| ·CSPM5000 扫描探针显微镜操作步骤 | 第38页 |
| ·本章小结 | 第38-40页 |
| 第五章 试验结果 | 第40-56页 |
| ·正交试验结果 | 第40-41页 |
| ·单因素试验结果 | 第41-55页 |
| ·抛光盘转速的试验结果与分析 | 第41-44页 |
| ·雾化液喷嘴高度的影响规律及分析 | 第44-46页 |
| ·压力对抛光的影响 | 第46-49页 |
| ·雾化半径的试验结果 | 第49-52页 |
| ·喷嘴角度对抛光结果的影响与分析 | 第52-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 第六章 结论与展望 | 第56-58页 |
| ·结论 | 第56-57页 |
| ·论文创新点 | 第57页 |
| ·论文不足之处 | 第57页 |
| ·展望 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-64页 |
| 附录： 作者在攻读硕士学位期间发表的论文 | 第64页 |
