SOI集成光波导的制备及传输特性研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-19页 |
| ·课题研究背景 | 第10-11页 |
| ·光波导技术简介 | 第11-13页 |
| ·SOI 集成光波导特性 | 第13-14页 |
| ·光波导技术研究现状 | 第14-17页 |
| ·国际研究现状 | 第14-16页 |
| ·国内研究现状 | 第16-17页 |
| ·本文的主要研究内容及意义 | 第17-19页 |
| 第二章 SOI 光波导传输特性的理论分析 | 第19-36页 |
| ·SOI 矩形光波导传输模态研究 | 第19-29页 |
| ·导模与辐射模 | 第19-20页 |
| ·非对称三层平板光波导有效折射率分析 | 第20-23页 |
| ·SOI 矩形光波导的有效折射率分析 | 第23-26页 |
| ·光波导导模的截止与单模传输 | 第26-29页 |
| ·SOI 波导传输损耗分析 | 第29-36页 |
| ·散射损耗 | 第29-32页 |
| ·吸收损耗 | 第32-33页 |
| ·辐射损耗 | 第33-34页 |
| ·模式转换损耗 | 第34-35页 |
| ·耦合损耗 | 第35-36页 |
| 第三章 SOI 波导结构特性仿真及优化设计 | 第36-47页 |
| ·波导传输特性仿真 | 第36-43页 |
| ·单模条件下波导有效折射率仿真 | 第36-38页 |
| ·SOI 矩形波导截面光场分布仿真 | 第38-40页 |
| ·弯曲波导传输模式仿真 | 第40-42页 |
| ·端面耦合及垂直光栅耦合仿真 | 第42-43页 |
| ·SOI 波导结构设计 | 第43-47页 |
| ·第一批波导结构设计 | 第44页 |
| ·第二批波导优化设计 | 第44-47页 |
| 第四章 SOI 波导制备 | 第47-58页 |
| ·微机械加工工艺简介 | 第47-48页 |
| ·SOI 集成光波导主要工艺 | 第48-53页 |
| ·紫外光刻 | 第48-49页 |
| ·电子束光刻 | 第49-50页 |
| ·磁控溅射 | 第50-51页 |
| ·ICP 刻蚀工艺 | 第51-53页 |
| ·FIB 聚焦离子束 | 第53页 |
| ·SOI 光波导制备 | 第53-58页 |
| ·第一批四寸工艺结果 | 第53-54页 |
| ·第二批分片工艺结果 | 第54-58页 |
| 第五章 SOI 光波导传输特性测试及分析 | 第58-69页 |
| ·SOI 光波导测量系统（分离式-滑轨式） | 第58-59页 |
| ·耦合测试 | 第59-63页 |
| ·端面耦合测试 | 第59-61页 |
| ·垂直耦合光栅测试 | 第61-63页 |
| ·SOI 光波导损耗测试 | 第63-69页 |
| ·SOI 矩形波导传输损耗测试 | 第64-65页 |
| ·SOI 矩形波导散射损耗测试 | 第65-68页 |
| ·SOI 弯曲波导损耗测试 | 第68-69页 |
| 第六章 总结与展望 | 第69-71页 |
| 参考文献 | 第71-76页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及所取得的研究成果 | 第76-77页 |
| 致谢 | 第77页 |
