| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-12页 |
| ·引言 | 第7页 |
| ·Al_xZn_(1-x)O国内外研发现状 | 第7-8页 |
| ·材料的基本结构及性能 | 第8-10页 |
| ·本论文研究的内容 | 第10-12页 |
| 第二章 ZnO及Al_2O_3靶材的研究 | 第12-14页 |
| ·ZnO及Al_2O_3靶材的制备方法 | 第12页 |
| ·靶材的结果与分析 | 第12-14页 |
| 第三章 磁控溅射法制备Al_xZn_(1-x)O薄膜 | 第14-18页 |
| ·磁控溅射法及原理 | 第14-15页 |
| ·Al_xZn_(1-x)O薄膜的制备 | 第15-18页 |
| 第四章 石英玻璃衬底上Al_xZn_(1-x)O薄膜的性能分析 | 第18-33页 |
| ·ZnO靶材溅射功率为60W | 第18-21页 |
| ·ZnO靶材溅射功率为90W | 第21-25页 |
| ·Al_2O_3靶材溅射功率为110W | 第25-28页 |
| ·Al_2O_3靶材溅射功率为200W | 第28-33页 |
| 第五章 蓝宝石衬底上Al_xZn_(1-x)O薄膜的性能分析 | 第33-47页 |
| ·ZnO靶材溅射功率为60W | 第33-36页 |
| ·ZnO靶材溅射功率为90W | 第36-39页 |
| ·Al_2O_3靶材溅射功率为110W | 第39-42页 |
| ·Al_2O_3靶材溅射功率为200W | 第42-47页 |
| 第六章 硅衬底上Al_xZn_(1-x)O薄膜的性能分析 | 第47-61页 |
| ·ZnO靶材溅射功率为60W | 第47-50页 |
| ·ZnO靶材溅射功率为90W | 第50-54页 |
| ·Al_2O_3靶材溅射功率为110W | 第54-57页 |
| ·Al_2O_3靶材溅射功率为200W | 第57-61页 |
| 结论 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-64页 |
