| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第一章 文献综述 | 第9-23页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·国内外氧化钨微纳米材料制备方法 | 第9-14页 |
| ·气相法 | 第10-12页 |
| ·水热法 | 第12-14页 |
| ·氧化钨微纳米材料的性能研究 | 第14-21页 |
| ·场发射性能 | 第15-18页 |
| ·光、电性能 | 第18-20页 |
| ·力学性能 | 第20-21页 |
| ·氧化钨纳米线研究发展趋势 | 第21-22页 |
| ·本论文研究目的及内容 | 第22-23页 |
| 第二章 实验和检测方法 | 第23-26页 |
| ·实验原料 | 第23页 |
| ·实验流程 | 第23-24页 |
| ·实验仪器与设备 | 第24页 |
| ·分析与检测手段 | 第24-26页 |
| ·扫描电镜形貌分析 | 第24-25页 |
| ·透射电镜分析 | 第25页 |
| ·X射线物相分析 | 第25页 |
| ·能谱成分分析 | 第25-26页 |
| 第三章 W_(18)O_(49)微纳米晶须/线的制备及生长机理研究 | 第26-52页 |
| ·引言 | 第26页 |
| ·W_(18)O_(49)微纳米晶须/线的表征 | 第26-29页 |
| ·工艺条件对W_(18)O_(49)微纳米晶须/线制备的影响 | 第29-41页 |
| ·反应温度对W_(18)O_(49)微纳米晶须/线制备的影响 | 第29-36页 |
| ·保温时间对W_(18)O_(49)微纳米晶须/线制备的影响 | 第36-39页 |
| ·原料特性对W_(18)O_(49)微纳米晶须/线制备的影响 | 第39-41页 |
| ·W_(18)O_(49)微纳米晶须/线生长机理研究 | 第41-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 第四章 衬底对W_(18)O_(49)微纳米晶须/线制备的影响 | 第52-63页 |
| ·引言 | 第52页 |
| ·镍片衬底对W_(18)O_(49)微纳米晶须/线制备的影响 | 第52-57页 |
| ·实验结果与分析 | 第52-55页 |
| ·镍片衬底对微纳米晶须/线生长过程的影响 | 第55-57页 |
| ·93W-Ni-Fe脱脂棒对W_(18)O_(49)微纳米晶须/线制备的影响 | 第57-62页 |
| ·实验结果与分析 | 第58-61页 |
| ·脱脂棒对W_(18)O_(49)微纳米晶须/线生长过程的影响 | 第61-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 第五章 结论 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 攻读学位期间主要的研究成果 | 第71页 |
