靶衬间距对激光烧蚀制备纳米Si薄膜特性影响
| Abstract | 第1-8页 |
| 第1章 引言 | 第8-11页 |
| 第2章 Monte Carlo理论基础 | 第11-14页 |
| ·蒙特卡罗方法概述 | 第11页 |
| ·蒙特卡罗方法解题的一般手续 | 第11-12页 |
| ·构造或描述概率过程 | 第11-12页 |
| ·实现从已知分布抽样 | 第12页 |
| ·建立各种估计量 | 第12页 |
| ·蒙特卡罗方法的特点 | 第12-14页 |
| 第3章 数值模拟过程简介 | 第14-24页 |
| ·脉冲激光烧蚀沉积原理 | 第14-18页 |
| ·模型原理 | 第18-21页 |
| ·基本假设 | 第18页 |
| ·烧蚀原子参数的计算 | 第18-20页 |
| ·环境气体原子参数的计算 | 第20页 |
| ·接受－拒绝方法 | 第20-21页 |
| ·模拟过程 | 第21-24页 |
| ·流程图 | 第21-22页 |
| ·模拟过程概述 | 第22-24页 |
| 第4章 结果及分析 | 第24-33页 |
| ·密度分布及成核区模型 | 第24-28页 |
| ·速度分布及纳米微粒尺寸均匀性分析 | 第28-33页 |
| ·速度分布 | 第28页 |
| ·所形成纳米微粒尺寸均匀性分析 | 第28-33页 |
| 第5章 实验比较 | 第33-41页 |
| ·实验系统简介 | 第33-34页 |
| ·样品表征方法简介 | 第34-36页 |
| ·样品的制备及表征 | 第36-41页 |
| 第6章 结束语 | 第41-42页 |
| 参考文献 | 第42-45页 |
| 致谢 | 第45页 |
