| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-17页 |
| ·前言 | 第9-10页 |
| ·半导体的光催化作用原理 | 第10-14页 |
| ·半导体光激发带间跃迁和量子效率 | 第10-11页 |
| ·半导体光催化作用的影响因素 | 第11-13页 |
| ·ZnO的光降解机理 | 第13-14页 |
| ·半导体光催化技术在环境中的应用 | 第14-17页 |
| ·有机污染物的处理 | 第14-16页 |
| ·无机污染物的处理 | 第16页 |
| ·贵金属的提取回收 | 第16-17页 |
| 第二章 ZnO概述 | 第17-30页 |
| ·ZnO的结构与性质 | 第17-18页 |
| ·纳米ZnO的应用 | 第18-20页 |
| ·制备抗菌除臭消毒抗紫外线产品 | 第18页 |
| ·用与精细陶瓷品工业 | 第18-19页 |
| ·用于催化剂和光催化剂 | 第19页 |
| ·用于制备气体传感器及压电材料 | 第19页 |
| ·制备图像记录材料 | 第19页 |
| ·用于荧光体和电容器 | 第19-20页 |
| ·用于隐身技术－雷达波吸收材料 | 第20页 |
| ·用于橡胶工业和涂料工业 | 第20页 |
| ·纳米ZnO的制备机理 | 第20-23页 |
| ·结晶过程 | 第20-22页 |
| ·ZnO的洗涤及干燥 | 第22页 |
| ·ZnO的煅烧 | 第22-23页 |
| ·纳米ZnO的制备 | 第23-29页 |
| ·物理法 | 第23页 |
| ·化学制备方法 | 第23-29页 |
| ·本课题的研究意义与目的 | 第29-30页 |
| 第三章 纳米ZnO的合成 | 第30-42页 |
| ·纳米ZnO的制备 | 第30-32页 |
| ·仪器与试剂 | 第30-31页 |
| ·工艺流程图 | 第31-32页 |
| ·反应方程式 | 第32页 |
| ·纳米ZnO的制备方法 | 第32页 |
| ·纳米ZnO粒子分布及大小的原位测定 | 第32-36页 |
| ·实验部分 | 第32-33页 |
| ·纳米ZnO的表征 | 第33页 |
| ·结果与讨论 | 第33-36页 |
| ·反应物组分对纳米ZnO粒子大小的影响 | 第36-40页 |
| ·实验部分 | 第36页 |
| ·结果与讨论 | 第36-40页 |
| ·小结 | 第40-42页 |
| 第四章 纳米ZnO的分散性控制及粒子大小控制 | 第42-49页 |
| ·前言 | 第42-43页 |
| ·实验部分 | 第43-44页 |
| ·纳米ZnO的制备 | 第43-44页 |
| ·过饱和度控制纳米ZnO粒子的生长 | 第44页 |
| ·结果与讨论 | 第44-48页 |
| ·过饱和度控制纳米ZnO粒子的生长 | 第44-45页 |
| ·过度饱和控制生长对纳米粒子大小分布的影响 | 第45-47页 |
| ·过度饱和控制生长的条件 | 第47-48页 |
| ·小结 | 第48-49页 |
| 第五章 纳米ZnO光催化降解孔雀石绿溶液的研究 | 第49-65页 |
| ·实验部分 | 第49-51页 |
| ·试剂与主要仪器 | 第49-50页 |
| ·催化剂的制备 | 第50页 |
| ·光催化降解孔雀石绿的实验 | 第50-51页 |
| ·样品的结构表征 | 第51-55页 |
| ·紫外－可见分光光谱分析 | 第51-52页 |
| ·透射电镜分析 | 第52-53页 |
| ·DSC分析 | 第53-54页 |
| ·XRD分析 | 第54-55页 |
| ·实验结果与讨论 | 第55-65页 |
| ·孔雀石绿标准曲线的绘制 | 第55-56页 |
| ·煅烧温度和处理时间的影响 | 第56-57页 |
| ·纳米ZnO用量对降解率的影响 | 第57-58页 |
| ·孔雀石绿浓度的影响 | 第58-59页 |
| ·溶液pH值的影响 | 第59-61页 |
| ·光强对降解率的影响 | 第61页 |
| ·几种催化剂的对比 | 第61-63页 |
| ·单位体积的光电子数对光催化降解的影响 | 第63-65页 |
| 第六章 光催化降解低浓度孔雀石绿溶液的动力学 | 第65-68页 |
| ·光催化降解低浓度孔雀石绿溶液的动力学方程理论分析 | 第65-66页 |
| ·不同的pH值对光催化活性影响的动力学方程 | 第66-68页 |
| 第七章 结论 | 第68-70页 |
| ·结论 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-77页 |
| 致谢 | 第77-78页 |
| 在校期间发表的论文 | 第78页 |