| 中文摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 引言 | 第8-22页 |
| ·原子分子物理学的发展现状 | 第8-9页 |
| ·高电荷态离子与表面相互作用的研究背景及意义 | 第9-10页 |
| ·低速高电荷态离子与表面相互作用实验技术与现状 | 第10-17页 |
| ·描述这一相互作用过程的理论进展 | 第17-19页 |
| ·本文的主要工作 | 第19-20页 |
| 参考文献 | 第20-22页 |
| 第二章 基本理论 | 第22-50页 |
| ·表面以上过程的相关模型 | 第22-36页 |
| ·Bohr-Lindhardt模型 | 第22-24页 |
| ·扩展的库仑过垒模型Extended Classical over-the-Barrier Model(ECBM) | 第24-25页 |
| ·分子库仑过垒模型Molecular Coulombic overBarrier Model(MCBM) | 第25-31页 |
| ·过垒模型在与金属表面相互作用时的应用 | 第31-33页 |
| ·过垒模型在与绝缘体表面表面相互作用时的应用 | 第33-36页 |
| ·表面以下过程的相关模型 | 第36-42页 |
| ·导带电子俘获模型 | 第36-38页 |
| ·Side—feeding模型 | 第38-39页 |
| ·Kohn-Sham自洽场模型 | 第39-40页 |
| ·级联跃迁模型Multistep eascade model | 第40-42页 |
| ·内部双电子激发模型Internel Dielectronic Excitation(IDE) | 第42-44页 |
| ·其他模型 | 第44-48页 |
| ·独立电子近似 | 第44-45页 |
| ·分子轨道模型 | 第45-48页 |
| 参考文献 | 第48-50页 |
| 第三章 实验技术 | 第50-62页 |
| ·实验装置 | 第50-59页 |
| ·实验条件 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-62页 |
| 第四章 实验结果与理论分析 | 第62-86页 |
| ·实验谱图处理及误差分析 | 第62-66页 |
| ·实验谱的基本处理 | 第62-66页 |
| ·实验数据误差分析 | 第66页 |
| ·Ar~(17+)离子的k_β/k_α比值 | 第66-73页 |
| ·Ar~(16+)离子K壳层X射线发射 | 第73-78页 |
| ·X射线强度的比较 | 第78-82页 |
| ·Ar~(16+)离子与Ar~(17+)离子的对比 | 第78-79页 |
| ·Ar~(18+)离子与Ar~(17+)离子的对比 | 第79-81页 |
| ·Ar~(16+)离子与Ar~(15+)离子的对比 | 第81-82页 |
| ·本章小结 | 第82-84页 |
| 参考文献 | 第84-86页 |
| 第五章 全文总结 | 第86-88页 |
| 发表文章目录 | 第88-89页 |
| 致谢 | 第89-90页 |
| 附图 | 第90-92页 |
