| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-22页 |
| ·光学薄膜的发展历史和研究现状 | 第8-11页 |
| ·光学薄膜的制备技术概述 | 第11-16页 |
| ·薄膜生长特性概述 | 第16-18页 |
| ·混合薄膜的研究进展 | 第18-21页 |
| ·本课题的提出及主要内容 | 第21-22页 |
| 第2章 研究方法与实验设备 | 第22-34页 |
| ·实验设备介绍 | 第22-26页 |
| ·薄膜的制备设备 | 第22-24页 |
| ·沉积过程中参数监控设备 | 第24-26页 |
| ·薄膜的制备 | 第26-30页 |
| ·基片的处理 | 第26页 |
| ·膜料属性 | 第26-28页 |
| ·TiO_2-Ta_2O_5膜料的制备 | 第28页 |
| ·薄膜的制备工艺 | 第28-30页 |
| ·光学常数的计算 | 第30-34页 |
| 第3章 TiO_2-Ta_2O_5薄膜结构的研究 | 第34-45页 |
| ·TiO_2-Ta_2O_5薄膜的XRD分析 | 第34-37页 |
| ·X射线衍射原理 | 第34-35页 |
| ·物相分析 | 第35-36页 |
| ·晶粒大小分析 | 第36-37页 |
| ·TiO_2-Ta_2O_5薄膜的AFM分析 | 第37-45页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第37-39页 |
| ·表面形貌分析 | 第39-42页 |
| ·粗糙度分析 | 第42-45页 |
| 第4章 TiO_2-Ta_2O_5薄膜光学性能的研究 | 第45-59页 |
| ·TiO_2-Ta_2O_5薄膜的透射率T | 第45-48页 |
| ·透射率测量原理 | 第45-46页 |
| ·Ta_2O_5含量对TiO_2-Ta_2O_5薄膜透射率的影响 | 第46-47页 |
| ·退火对TiO_2-Ta_2O_5薄膜透射率的影响 | 第47-48页 |
| ·TiO_2-Ta_2O_5薄膜光学常数 | 第48-54页 |
| ·TiO_2-Ta_2O_5薄膜的折射率n | 第48-52页 |
| ·TiO_2-Ta_2O_5薄膜的消光系数k | 第52-54页 |
| ·TiO_2-Ta_2O_5薄膜的光学禁带宽度Eg | 第54-56页 |
| ·TiO_2-Ta_2O_5薄膜的吸收限和截止波长 | 第56-59页 |
| 第5章 结论 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 附录:硕士期间发表论文 | 第66页 |
