摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-9页 |
第1章 绪论 | 第9-18页 |
·传输紫外激光空芯光纤的发展历史及研究现状 | 第9-13页 |
·紫外激光的特点及应用对传输手段的新需求 | 第9-10页 |
·石英光纤传输紫外激光的局限性 | 第10-11页 |
·传输紫外激光空芯光纤的研究 | 第11-12页 |
·空芯光纤研究中所存在的问题及发展趋势 | 第12-13页 |
·金属-无机纳米复合材料的特性及应用 | 第13-14页 |
·溶胶-凝胶技术制备空芯波导材料的可行性 | 第14-16页 |
·溶胶-凝胶技术的特点 | 第14-15页 |
·溶胶-凝胶技术的应用 | 第15-16页 |
·溶胶-凝胶技术合成空芯光纤膜材料的可行性 | 第16页 |
·本文的研究目的和意义 | 第16-18页 |
第2章 传输紫外激光空芯光纤的原理与结构设计 | 第18-26页 |
·空芯光纤内部光传输原理 | 第18-20页 |
·传输紫外激光空芯光纤的结构设计 | 第20-24页 |
·空芯光纤内径的确定 | 第20-21页 |
·基管和膜层的选择 | 第21-22页 |
·镀膜方法的选择 | 第22-24页 |
·纳米SiO_2薄膜材料的紫外反射 | 第24-26页 |
第3章 基质硅溶胶制备工艺路线和参数 | 第26-36页 |
·基质硅溶胶制备的实验条件 | 第26-28页 |
·玻璃基片的处理 | 第26页 |
·实验药品、试剂及设备 | 第26-27页 |
·实验步骤 | 第27-28页 |
·影响基质硅溶胶稳定性的因素 | 第28-35页 |
·乙醇对基质硅溶胶稳定性的影响 | 第29-30页 |
·DMF对基质硅溶胶稳定性的影响 | 第30-31页 |
·pH值对基质硅溶胶稳定性的影响 | 第31-34页 |
·水对基质硅溶胶稳定性的影响 | 第34-35页 |
·基质硅溶胶工艺配方的确定 | 第35-36页 |
第4章 Au-SiO_2复合溶胶的研究 | 第36-43页 |
·Au-SiO_2复合溶胶的制备 | 第36-37页 |
·胶粒的对比 | 第37-39页 |
·胶团的对比 | 第39-42页 |
·胶团分布特点 | 第39-40页 |
·胶团规则度 | 第40-42页 |
·金在 Au-SiO_2复合溶胶中的存在方式和还原方式 | 第42-43页 |
第5章 Au-SiO_2复合薄膜的制备与性能研究 | 第43-55页 |
·Au-SiO_2复合薄膜的制备 | 第43-47页 |
·Au-SiO_2复合薄膜的制备工艺流程 | 第43-44页 |
·提拉法镀膜工艺参数的确定 | 第44-47页 |
·Au-SiO_2复合薄膜的性能表征 | 第47-55页 |
·XRD测试分析 | 第48-49页 |
·SEM测试分析 | 第49-51页 |
·Au-SiO_2复合薄膜的紫外反射率及其影响因素、影响规律 | 第51-54页 |
·Au-SiO_2复合薄膜的老化与寿命 | 第54-55页 |
第6章 结论 | 第55-56页 |
参考文献 | 第56-60页 |
致谢 | 第60-61页 |
攻读硕士学位期间发表论文目录 | 第61页 |