| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-23页 |
| ·引言 | 第12页 |
| ·雷达吸波涂层的现状 | 第12-14页 |
| ·雷达吸波涂层 | 第12-13页 |
| ·国外隐身材料的发展现状 | 第13-14页 |
| ·国内隐身材料的发展现状 | 第14页 |
| ·改善有机涂层与基材间界面结合强度的途径 | 第14-16页 |
| ·合理匹配覆层材料与基材的类型 | 第14页 |
| ·中间涂层（过渡层）的应用 | 第14-15页 |
| ·合理使用涂覆工艺，适当控制工艺参数 | 第15页 |
| ·表面预处理 | 第15-16页 |
| ·利用一些促进物质间相互扩散的方法 | 第16页 |
| ·阳极氧化法制备TiO_2 多孔膜 | 第16-18页 |
| ·阳极氧化的机理 | 第16-17页 |
| ·阳极氧化技术的特点 | 第17页 |
| ·钛阳极氧化膜的形成 | 第17-18页 |
| ·微弧氧化制备TiO_2 多孔膜 | 第18-21页 |
| ·微弧氧化的机理 | 第18-19页 |
| ·微弧氧化技术的基本过程 | 第19-21页 |
| ·钛合金微弧氧化的形成过程 | 第21页 |
| ·主要工作及意义 | 第21-23页 |
| 第2章 阳极氧化法在钛合金表面制备TiO_2多孔膜 | 第23-32页 |
| ·钛合金的阳极氧化 | 第23-24页 |
| ·试验原料 | 第23页 |
| ·试验方法 | 第23-24页 |
| ·TC4 试样的前处理 | 第24页 |
| ·阳极氧化处理 | 第24页 |
| ·表征方法 | 第24-25页 |
| ·阳极氧化电压对TiO_2 纳米多孔膜的影响 | 第25-27页 |
| ·阳极氧化电压对氧化膜孔径和形貌的影响 | 第25-26页 |
| ·阳极氧化电压对氧化膜晶型的影响 | 第26-27页 |
| ·阳极氧化电压对氧化膜表面粗糙度的影响 | 第27页 |
| ·阳极氧化时间对TiO_2 纳米多孔膜的影响 | 第27-29页 |
| ·阳极氧化时间对氧化膜孔径和孔形貌的影响 | 第27-28页 |
| ·阳极氧化时间对氧化膜晶型的影响 | 第28-29页 |
| ·阳极氧化时间对氧化膜表面粗糙度的影响 | 第29页 |
| ·分析与讨论 | 第29-32页 |
| ·多孔Ti02 膜的形成 | 第30-31页 |
| ·不同晶型Ti02 多孔膜的形成 | 第31-32页 |
| 第3章 微弧氧化法在钛合金表面制备TiO_2多孔膜 | 第32-49页 |
| ·钛合金的微弧氧化 | 第32-33页 |
| ·试验原料 | 第32页 |
| ·试验方法 | 第32页 |
| ·TC4 试样的前处理 | 第32页 |
| ·微弧氧化处理 | 第32-33页 |
| ·表征方法 | 第33页 |
| ·微弧氧化电流对TiO_2 多孔膜的影响 | 第33-37页 |
| ·微弧氧化电流对氧化膜孔径与形貌的影响 | 第33-34页 |
| ·微弧氧化电流对氧化膜晶型的影响 | 第34-35页 |
| ·微弧氧化电流对氧化膜厚度的影响 | 第35-36页 |
| ·微弧氧化电流对氧化膜粗糙度的影响 | 第36页 |
| ·分析与讨论 | 第36-37页 |
| ·微弧氧化时间对TiO_2 多孔膜的影响 | 第37-41页 |
| ·微弧氧化时间对氧化膜孔径与形貌的影响 | 第37-38页 |
| ·微弧氧化时间对氧化膜晶型的影响 | 第38-39页 |
| ·微弧氧化时间对氧化膜厚度的影响 | 第39-40页 |
| ·微弧氧化时间对氧化膜粗糙度的影响 | 第40页 |
| ·分析与讨论 | 第40-41页 |
| ·微弧氧化电解液浓度对TiO_2 多孔膜的影响 | 第41-45页 |
| ·微弧氧化电解液浓度对氧化膜孔径与形貌的影响 | 第41-42页 |
| ·微弧氧化电解液浓度对氧化膜晶型的影响 | 第42-43页 |
| ·微弧氧化电解液浓度对氧化膜厚度的影响 | 第43-44页 |
| ·微弧氧化电解液浓度对氧化膜粗糙度的影响 | 第44页 |
| ·分析与讨论 | 第44-45页 |
| ·微弧氧化电压对TiO_2 多孔膜的影响 | 第45-49页 |
| ·微弧氧化电压对氧化膜孔径与形貌的影响 | 第45-46页 |
| ·微弧氧化电压对氧化膜晶型的影响 | 第46-47页 |
| ·微弧氧化电压对氧化膜厚度的影响 | 第47页 |
| ·微弧氧化电压对氧化膜粗糙度的影响 | 第47-48页 |
| ·分析与讨论 | 第48-49页 |
| 第4章 钛合金基环氧涂层制备及结合性能研究 | 第49-60页 |
| ·环氧涂层的制备 | 第49-50页 |
| ·隐身涂层 | 第49页 |
| ·涂层相形成机理 | 第49-50页 |
| ·试验原料 | 第50页 |
| ·试验仪器及设备 | 第50页 |
| ·制备涂层 | 第50页 |
| ·涂层与基体界面结合强度的测试 | 第50-52页 |
| ·界面结合强度的测试方法 | 第50-52页 |
| ·界面结合强度测试 | 第52页 |
| ·阳极氧化试验参数对涂层与基体结合强度的影响 | 第52-55页 |
| ·阳极氧化电压对结合强度的影响 | 第52-53页 |
| ·阳极氧化断裂面的微观形貌观察 | 第53-54页 |
| ·阳极氧化时间对结合强度的影响 | 第54页 |
| ·阳极氧化提高涂层结合强度的分析 | 第54-55页 |
| ·微弧氧化试验参数对涂层与基体结合强度的影响 | 第55-60页 |
| ·微弧氧化电流对结合强度的影响 | 第55-56页 |
| ·微弧氧化时间对结合强度的影响 | 第56-57页 |
| ·微弧氧化断裂面的微观形貌观察 | 第57-58页 |
| ·微弧氧化提高涂层结合强度的分析 | 第58-60页 |
| 第5章 钛合金表面多孔TiO_2的孔密度控制 | 第60-71页 |
| ·影响微弧氧化制备的因素 | 第60-61页 |
| ·电解质溶液的影响 | 第60-61页 |
| ·温度与搅拌的影响 | 第61页 |
| ·微弧氧化处理 | 第61-63页 |
| ·试验装置与材料 | 第61-62页 |
| ·试验方法 | 第62-63页 |
| ·表征方法 | 第63页 |
| ·试验参数对TiO_2 多孔膜的影响 | 第63-68页 |
| ·微弧氧化电流对多孔膜形貌的影响 | 第63-64页 |
| ·微弧氧化电流对涂层结合强度的影响 | 第64页 |
| ·微弧氧化时间对多孔膜形貌的影响 | 第64-65页 |
| ·微弧氧化时间对涂层结合强度的影响 | 第65页 |
| ·微弧氧化电解液浓度对多孔膜形貌的影响 | 第65-66页 |
| ·微弧氧化电解液浓度对涂层结合强度的影响 | 第66-67页 |
| ·微弧氧化电压对多孔膜形貌的影响 | 第67-68页 |
| ·微弧氧化电压对涂层结合强度的影响 | 第68页 |
| ·分析与讨论 | 第68-71页 |
| ·多孔膜形貌的分析 | 第69页 |
| ·微弧氧化提高涂层结合强度的分析 | 第69-71页 |
| 第6章 结论与展望 | 第71-74页 |
| ·主要试验结果与结论 | 第71-72页 |
| ·阳极氧化与微弧氧化制备TiO_2 多孔膜的主要结论 | 第71页 |
| ·TiO_2 多孔膜增强环氧涂层结合强度的主要结论 | 第71-72页 |
| ·展望 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |
| 在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第80页 |
| 在学期间主要参加的科研项目 | 第80页 |
