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石英光纤表面的金属化

摘要第1-4页
ABSTRACT第4-9页
第1章 绪论第9-15页
   ·光纤传感技术简介第9-12页
   ·光纤表面金属化国内外研究状况第12-14页
   ·本论文研究的内容和意义第14-15页
第2章 光纤表面预处理第15-23页
   ·光纤的基本结构第15-16页
   ·光纤表面的预处理第16-19页
     ·去保护层第16-17页
     ·除油第17页
     ·粗化第17页
     ·敏化第17-18页
     ·活化第18-19页
   ·实验部分第19-22页
     ·实验试剂及规格第19页
     ·粗化时间对镀层的影响第19-21页
     ·敏化后水洗时间对镀层的影响第21-22页
   ·小结第22-23页
第3章 光纤表面化学镀第23-41页
   ·化学镀的历史第23-24页
   ·化学镀特点第24页
   ·二元化学镀镍第24-25页
   ·化学镀镍─磷基多元合金第25-26页
   ·化学沉积 Ni-P-B 镀层工艺的理论基础第26-27页
     ·氯化镍与次亚磷酸钠的反应过程第26页
     ·氯化镍与硼氢化钾的反应过程第26-27页
   ·化学镀镍─磷─硼合金实验工艺研究第27-31页
     ·实验试剂及仪器第27页
     ·实验仪器及型号第27-28页
     ·实验材料第28页
     ·检测方法第28页
     ·化学镀镍各组分的作用与选择第28-30页
     ·实验装置第30页
     ·镀液配置方法第30-31页
   ·化学镀镍的工艺选择第31-38页
     ·实验方案的设计第31页
     ·正交实验结果及讨论第31-35页
     ·氯化镍对沉积速度的影响第35页
     ·硼氢化钾对沉积速度的影响第35-36页
     ·稳定剂的影响第36页
     ·温度的影响第36-37页
     ·乙二胺对沉积速度的影响第37-38页
   ·镀层性能测试分析第38-40页
     ·导电性第38页
     ·结合力第38页
     ·SEM 表面形貌第38-39页
     ·镀层表面 XRD 的分析第39页
     ·化学镀镍的能谱分析第39-40页
   ·小结第40-41页
第4章 稀土对化学镀 Ni-P-B 的影响第41-49页
   ·稀土元素概述第41页
   ·稀土元素的结构与性能特点第41-42页
     ·稀土元素的几何性质第41-42页
     ·稀土元素的物理性质第42页
     ·稀土元素的化学性质第42页
   ·稀土元素对化学镀的影响概述第42-43页
   ·实验部分第43-44页
     ·实验仪器和材料第43-44页
     ·稀土氧化物悬浊液的制备第44页
     ·镀层性能测试方法第44页
   ·结果及分析第44-47页
     ·稀土氧化物对沉积速度的影响第44-46页
     ·镀液稳定性测试第46页
     ·表面形貌测试第46-47页
     ·表面成分测试第47页
   ·小结第47-49页
第5章 光纤表面电镀第49-63页
   ·电镀基本概念及结晶过程第49-51页
     ·电镀的基本概念第49-50页
     ·电镀的结晶过程第50-51页
   ·电镀镍第51-54页
     ·镀镍溶液的分类第51-52页
     ·电镀镍电极过程第52-53页
     ·镀液中各成分的作用和影响第53-54页
   ·实验部分第54-56页
     ·实验试剂及规格第54-55页
     ·实验仪器及型号第55页
     ·光纤电镀实验装置第55-56页
     ·实验材料第56页
   ·实验结果与讨论第56-59页
     ·硫酸镍对沉积速度的影响第56页
     ·硼酸的缓冲作用第56-57页
     ·电流密度和润湿剂对镀层沉积速度的影响第57页
     ·润湿剂对镀层质量的影响第57-58页
     ·电流密度对镀层表面质量的影响第58-59页
   ·稀土对电镀的影响第59-62页
     ·基本镀液及工艺第60页
     ·试样测试第60页
     ·测试结果及讨论第60-62页
   ·小结第62-63页
第6章 结论与展望第63-65页
   ·结论第63页
   ·建议第63-65页
致谢第65-66页
参考文献第66-69页
攻读学位期间的研究成果第69页

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