氮化铝纳米线制备及微结构分析
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 1 绪论 | 第10-25页 |
| ·纳米材料 | 第10-12页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·纳米材料的特性 | 第10-12页 |
| ·低维纳米材料的制备和表征 | 第12-15页 |
| ·纳米粉体的制备 | 第13页 |
| ·纳米线/棒的制备 | 第13-15页 |
| ·低维纳米材料的表征方法 | 第15页 |
| ·AlN纳米材料 | 第15-23页 |
| ·AlN简介 | 第15-17页 |
| ·AlN纳米粉研究 | 第17-18页 |
| ·AlN纳米线研究 | 第18-23页 |
| ·本论文的意义、内容 | 第23-25页 |
| 2 直流电弧法制备AlN低维纳米材料研究 | 第25-49页 |
| ·实验 | 第25-28页 |
| ·氢等离子体电弧法原理 | 第25-26页 |
| ·实验设备简介 | 第26-27页 |
| ·实验方案图 | 第27页 |
| ·实验样品制备 | 第27-28页 |
| ·AlN纳米粉研究结果与讨论 | 第28-38页 |
| ·制备条件对纳米粉生成量的影响 | 第28-29页 |
| ·X射线分析 | 第29-35页 |
| ·反应的热力学计算 | 第35-37页 |
| ·晶粒与晶格常数的测定 | 第37页 |
| ·电镜分析 | 第37-38页 |
| ·AlN纳米线的结果与讨论 | 第38-49页 |
| ·X射线分析 | 第38-40页 |
| ·扫描电镜分析 | 第40-45页 |
| ·透射电镜分析 | 第45-46页 |
| ·Raman光谱 | 第46-47页 |
| ·紫外-可见光光谱 | 第47-49页 |
| 3 高温烧结法制备的AlN纳米线 | 第49-64页 |
| ·实验 | 第49-52页 |
| ·实验设备简介 | 第49-50页 |
| ·实验流程图 | 第50-51页 |
| ·实验样品制备 | 第51-52页 |
| ·制备条件对制备纳米线的影响 | 第52-55页 |
| ·温度对制备AlN纳米线的影响 | 第52-54页 |
| ·保温时间对制备AlN纳米线的影响 | 第54页 |
| ·原料对制备AlN纳米线的影响 | 第54-55页 |
| ·结果与讨论 | 第55-64页 |
| ·X射线分析 | 第55-58页 |
| ·扫描电镜分析 | 第58-60页 |
| ·透射电子显微分析 | 第60-64页 |
| 4 AlN纳米线生长机理研究 | 第64-74页 |
| ·纳米线的生长机理简介 | 第64-69页 |
| ·VLS生长机理 | 第64-65页 |
| ·氧化物辅助生长机理 | 第65-66页 |
| ·固-液-固生长机理 | 第66-67页 |
| ·聚合物膜模板法生长机理 | 第67-69页 |
| ·电弧法制备AlN纳米线的生长机理研究 | 第69-71页 |
| ·AlN纳米线的生长机理研究 | 第69-70页 |
| ·纳米线不同形貌的成因 | 第70-71页 |
| ·烧结法制备的AlN纳米线生长机理 | 第71-74页 |
| 5 结论 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-81页 |
| 在学研究成果 | 第81-82页 |
| 致谢 | 第82页 |
