| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 1 绪论 | 第10-21页 |
| ·类金刚石薄膜的概述 | 第10-14页 |
| ·类金刚石薄膜的组成和结构 | 第10-12页 |
| ·类金刚石薄膜的性质和应用 | 第12-14页 |
| ·类金刚石薄膜的制备 | 第14-18页 |
| ·物理气相沉积(Physical Vapor Deposition) | 第14-15页 |
| ·化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition) | 第15页 |
| ·液相电沉积类金刚石薄膜 | 第15-17页 |
| ·反应机理 | 第17-18页 |
| ·研究前沿、选题意义及主要研究内容 | 第18-21页 |
| ·研究前沿 | 第18-19页 |
| ·选题意义 | 第19页 |
| ·主要研究内容 | 第19-21页 |
| 2 类金刚石薄膜的制备与分析方法 | 第21-31页 |
| ·薄膜的制备与工艺 | 第21-22页 |
| ·基片的预处理 | 第21-22页 |
| ·实验工艺参数选择 | 第22页 |
| ·工艺参数的选择对液相电沉积DLC薄膜的影响 | 第22-24页 |
| ·碳源的选择原则 | 第22-23页 |
| ·衬底材料的选择 | 第23-24页 |
| ·沉积电压的选择 | 第24页 |
| ·沉积温度的选择 | 第24页 |
| ·电极间距的选择 | 第24页 |
| ·DLC薄膜性能的表征 | 第24-31页 |
| ·类金刚石膜的Raman光谱 | 第24-26页 |
| ·红外光谱分析 | 第26页 |
| ·扫描电镜分析 | 第26-27页 |
| ·摩擦磨损分析 | 第27-29页 |
| ·纳米硬度分析 | 第29-31页 |
| 3 硅基体上液相电化学沉积类金刚石薄膜 | 第31-47页 |
| ·DLC薄膜的制备与分析方法 | 第31-32页 |
| ·实验装置 | 第31-32页 |
| ·基片的预处理 | 第32页 |
| ·实验工艺参数选择 | 第32页 |
| ·DLC薄膜的表征 | 第32页 |
| ·实验结果与分析 | 第32-46页 |
| ·工艺参数的选择对液相电沉积DLC薄膜的影响 | 第32-36页 |
| ·薄膜表面形貌 | 第36-39页 |
| ·硅衬底上电化学沉积DLC薄膜的结构 | 第39-44页 |
| ·沉积膜的摩擦学性能 | 第44-46页 |
| ·本章讨论 | 第46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 4 在不锈钢基体上液相电化学沉积类金刚石薄膜 | 第47-60页 |
| ·DLC薄膜的制备与分析方法 | 第47-48页 |
| ·基片的预处理 | 第47页 |
| ·实验工艺参数选择 | 第47-48页 |
| ·DLC薄膜的表征 | 第48页 |
| ·工艺参数的选择对薄膜的影响 | 第48-50页 |
| ·有机溶剂 | 第48-49页 |
| ·脉冲电压 | 第49-50页 |
| ·沉积温度 | 第50页 |
| ·电极间距 | 第50页 |
| ·DLC薄膜检测与分析 | 第50-58页 |
| ·SEM分析 | 第50-53页 |
| ·TEM分析 | 第53-55页 |
| ·Raman光谱分析 | 第55-56页 |
| ·FTIR分析 | 第56-57页 |
| ·薄膜摩擦性能分析 | 第57-58页 |
| ·本章总结 | 第58-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 5 液相法电沉积DLC薄膜的机理 | 第60-63页 |
| 6 结论与展望 | 第63-65页 |
| ·绪论 | 第63-64页 |
| ·展望 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-70页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71-73页 |
| 大连理工大学学位论文版权使用授权书 | 第73页 |