多弧离子镀氮化物薄膜的性能及应用
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 1 绪论 | 第7-17页 |
| 1．1 研究背景 | 第7-8页 |
| 1．2 离子镀技术 | 第8-11页 |
| 1．2．1 离子镀的特点 | 第8-10页 |
| 1．2．2 离子镀中沉积成膜的条件 | 第10-11页 |
| 1．3 多弧离子镀技术 | 第11-15页 |
| 1．3．1 多弧离子镀的原理和特点 | 第11-14页 |
| 1．3．2 多弧离子镀的发展 | 第14-15页 |
| 1．3．3 多弧离子镀的应用 | 第15页 |
| 1．4 本研究的内容 | 第15-17页 |
| 2 TiN、CrN、TiAlN膜薄膜综述 | 第17-22页 |
| 2．1 TiN膜 | 第17-18页 |
| 2．2 CrN薄膜 | 第18页 |
| 2．3 TiAlN膜 | 第18-22页 |
| 2．3．1 TiAlN的性能 | 第19页 |
| 2．3．2 Al在TiAlN薄膜中的作用 | 第19页 |
| 2．3．3 铝对薄膜结构及硬度的影响 | 第19-22页 |
| 3 实验设备及参数 | 第22-37页 |
| 3．1 多弧离子镀设备 | 第22-25页 |
| 3．1．1 阴极弧源系统 | 第22-24页 |
| 3．1．2 基片台 | 第24页 |
| 3．1．3 真空系统 | 第24页 |
| 3．1．4 电源系统 | 第24-25页 |
| 3．2 实验参数对收集电流的影响 | 第25-35页 |
| 3．2．1 等离子体测量设备 | 第26-28页 |
| 3．2．2 等离子体参数的测量 | 第28-35页 |
| 3．3 Model Tb-01划痕仪 | 第35-36页 |
| 3．4 实验工艺与参数 | 第36-37页 |
| 4 薄膜性能分析 | 第37-49页 |
| 4．1 Cr—N薄膜性能分析 | 第37-43页 |
| 4．1．1 Cr—N薄膜X-rad分析 | 第37-39页 |
| 4．1．2 Cr-N薄膜的显微硬度测试分析 | 第39-43页 |
| 4．2 TiAlN的薄膜性能分析 | 第43-46页 |
| 4．2．1 TiAlN的薄膜的X—rad分析 | 第43-44页 |
| 4．2．2 不同氮气含量的薄膜的显微硬度 | 第44-45页 |
| 4．2．3 不同TiAlN工艺的表面形貌 | 第45-46页 |
| 4．3 不同薄膜结合力分析 | 第46-49页 |
| 5 氮化物薄膜的应用 | 第49-52页 |
| 5．1 TiN涂层的应用 | 第49页 |
| 5．2 CrN涂层的应用 | 第49-50页 |
| 5．3 TiAlN涂层的应用 | 第50-52页 |
| 6 结论 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
| 大连理工大学学位论文版权使用授权书 | 第57页 |
