摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-5页 |
目录 | 第5-7页 |
第一章 前言 | 第7-26页 |
·课题研究的目的和意义 | 第7-8页 |
·课题来源 | 第8页 |
·光催化技术在环境保护中的应用 | 第8-10页 |
·光催化技术在水处理系统中的应用 | 第8-9页 |
·光催化技术在医药卫生方面的杀菌作用 | 第9页 |
·光催化技术在气体处理系统中的应用 | 第9-10页 |
·光催化技术的发展方向和应用前景 | 第10页 |
·半导体光催化原理 | 第10-13页 |
·TiO_2光催化技术的研究前沿方向 | 第13页 |
·TiO_2催化剂的可见光化研究 | 第13-24页 |
·元素掺杂改性 | 第14-18页 |
·金属离子掺杂 | 第14-15页 |
·非金属元素掺杂改性 | 第15-16页 |
·N 和F共掺杂的TiO_2 | 第16-17页 |
·N 和La~(3+)共掺杂的TiO_2 | 第17页 |
·B 掺杂TiO_2与Ni_2O_3的复合 | 第17-18页 |
·离子注入和等离子体处理 | 第18页 |
·TiO_2与半导体复合 | 第18-20页 |
·半导体表面光敏化 | 第20-22页 |
·PtCl_6~(2-)/TiO_2 界面上的可见光反应 | 第22-23页 |
·开发非TiO_2系列的光催化剂 | 第23-24页 |
·立题依据 | 第24-26页 |
第二章 实验部分 | 第26-30页 |
·主要实验药品 | 第26页 |
·主要实验仪器 | 第26-27页 |
·实验内容 | 第27-29页 |
·TiO_2 ,InVO_4/TiO_2与Pt/InVO_4/TiO_2光催化剂的制备 | 第27页 |
·光催化剂的物性表征 | 第27页 |
·晶相结构表征(XRD) | 第27-28页 |
·高分辨透射电镜(HRTEM) | 第28页 |
·比表面积测定(BET) | 第28页 |
·热重(TG)和差示扫描量热(DSC)分析 | 第28页 |
·紫外-可见漫反射光谱(DRS) | 第28页 |
·表面光电压谱(SPS FISPS) | 第28页 |
·X-射线光电子能谱(XPS) | 第28页 |
·羟基自由基的检测 | 第28-29页 |
·光催化反应活性评价 | 第29-30页 |
第三章 InVO_4/TiO_2可见光光催化剂的性能研究 | 第30-45页 |
·引言 | 第30页 |
·InVO_4含量对InVO_4/TiO_2的可见光活性的影响 | 第30-36页 |
·XRD 表征 | 第31-33页 |
·高分辨电镜(HRTEM) | 第33页 |
·紫外-可见漫反射光谱(DRS) | 第33-34页 |
·样品的热重(TG)和差示扫描量热(DSC)分析 | 第34-36页 |
·焙烧温度对0.5%InVO_4/TiO_2的光催化活性的影响 | 第36-38页 |
·XRD 表征结果 | 第37页 |
·DRS 分析 | 第37-38页 |
·不同制备方法对催化活性的影响 | 第38-43页 |
·紫外-可见漫反射光谱(DRS) | 第39页 |
·表面光电压谱和场致表面光电压谱(SPS 和FISPS) | 第39-41页 |
·外加电场对表面光电压响应的影响 | 第40-41页 |
·化学荧光法测定羟基自由基 | 第41-43页 |
·小结 | 第43-45页 |
第四章 Pt/InVO_4/TiO_2气相光催化性能研究和表征结果 | 第45-58页 |
·引言 | 第45页 |
·Pt/InVO_4/TiO_2气相光催化性能研究 | 第45-47页 |
·负载不同量Pt 的InVO_4/TiO_2对光催化降解乙烯活性的影响 | 第45-46页 |
·系列TiO_2基催化剂的可见光催化降解乙烯活性的比较 | 第46页 |
·溴代甲烷的光催化降解 | 第46-47页 |
·系列可见光催化剂的表征结果 | 第47-55页 |
·紫外-可见漫反射光谱(DRS) | 第47-48页 |
·N_2吸附表征结果 | 第48-49页 |
·晶相结构表征结果 | 第49-51页 |
·X 射线电子能谱(XPS) | 第51-55页 |
·复合催化剂Pt/InVO_4/TiO_2 体系的可见光催化反应机理 | 第55-56页 |
·小结 | 第56-58页 |
结论 | 第58-60页 |
参考文献 | 第60-68页 |
致谢 | 第68-69页 |
个人简历 | 第69页 |
发表文章目录 | 第69页 |